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產品簡介
CYR-E-NMP-在線NMP濃度檢測儀，助力半導體清洗提升良率。實時連續監測，秒級響應，精準控制NMP濃度，避免清洗不干凈或過度刻蝕。高精度、低維護、耐高溫耐腐蝕，保障設備安全與環保合規，為半導體清洗保駕護航。
詳細介紹
產品介紹
在半導體清洗工藝中，控制 NMP 濃度至關重要，而基于折光原理的CYR-E-NMP-在線NMP濃度檢測儀正是該領域的主流選擇之一，能有效助力半導體清洗提升良率。
半導體清洗需要控制 NMP濃度。NMP是高效的光刻膠剝離劑和清洗溶劑，濃度直接影響其溶解能力。濃度過低會導致清洗困難，出現光刻膠殘留；濃度過高則可能造成過度刻蝕或損傷敏感結構。此外，濃度波動會使晶圓批次間的清洗效果出現差異，成為良率波動的潛在因素。
CYR-E-NMP-在線NMP濃度檢測儀檢測NMP濃度具有諸多優勢。它能夠實時連續監測，提供每秒更新的濃度數據，及時反饋清洗槽或循環管路中 NMP 的實際狀態，快速響應異常情況，避免整批晶圓報廢。現代在線折光儀在 NMP 的典型工作濃度范圍內精度高，測量基于物理光學原理，不受溶液顏色、氣泡、懸浮物等干擾，穩定性優于電導率或 pH 法。儀表設計良好，無耗材，減少長期運營成本和維護頻次。
在半導體清洗中，NMP 濃度在線分析儀有多個典型應用點，如光刻膠剝離槽主槽或循環管路中 NMP 工作液濃度的實時監控與自動補液，清洗 / 漂洗槽監控 NMP 殘留或回收液濃度，NMP 回收系統監測蒸餾提純后 NMP 的純度，以及廢液處理前監控確保廢液濃度符合處理裝置要求。
產品參數
產品型號 | CYR-E-NMP |
測量項目 | 折射率、溫度、濃度 |
測量范圍 | 0-100% |
分 辨 率 | 0.01% |
重復精度 | ± 0.02% |
測量溫度 | 0至130℃ |
溫度補償 | 0-130℃ |
關鍵材質 | 觸液面材質：超純PTFE或PFA；外殼：襯氟 |
| 棱鏡材質 | 光學級藍寶石 |
信號輸出 | DC4至20mA & RS485；2路開關量信號輸出 |
| 輸入電源 | DC 24V 或 AC 220V |
防護等級 | IP65 |
工藝壓力 | ≤1MPa（10Bar）更高壓力等級可定制 |
尺寸重量 | 傳感器：￠119 * 188mm / 約2.0KG |
安裝選項 | 1/2英寸管路安裝 |
| 其他功能 | 多功能主機操作面板可查看濃度、溫度、折射率等數據 支持故障碼提示、一鍵校零、恢復出廠設置、曲線記錄及數據導出等功能 |
