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奧林巴斯 BX53-P 偏光顯微鏡采用 UIS2 無限遠校正光學系統(tǒng)和光學設計，在偏光應用中具有出色的性能。擴展的兼容補償器系列使 BX53-P 偏光顯微鏡用途廣泛，幾乎可以處理任何領域的觀察和測量應用。
UIS2 光學系統(tǒng)充分利用了無限遠校正的優(yōu)勢，有助于防止光學顯微鏡性能下降并消除放大因素，即使將偏振元件（如分析器、色板或補償器）引入光路也是如此。BX53-P 顯微鏡還接受適用于 BX3 系列顯微鏡以及相機和成像系統(tǒng)的中間附件。
石英閃長巖中的斜長石的帶狀結構。 *比例表示樣品的實際尺寸
MBBA 的光學結構 *尺度表示樣本的實際尺寸
使用錐光觀察附件，在正交觀察和錐光觀察之間切換非常簡單。它可聚焦，以便觀察清晰的后焦平面干涉圖案。伯特蘭透鏡可聚焦，以便清晰地觀察后焦平面干涉圖案。視場光闌使始終獲得清晰的錐光圖像成為可能。
有六種不同的補償器可用于測量巖石和礦物薄片中的雙折射。測量延遲水平范圍為 0 至 20λ。為了便于測量并獲得高圖像對比度，
可以使用 Berek 和 Senarmont 補償器，它們會改變整個視野中的延遲水平。
補償器的測量范圍
| 補償器 | 測量范圍 | 應用 |
|---|---|---|
| 蒂克貝雷克 (U-CTB) | 0–11000 納米 （20λ） | 高延遲水平 (R*>3λ) 的測量，（晶體、大分子、纖維等） |
| 貝雷克 (U-CBE) | 0–1640 納米 (3λ) | 延遲水平的測量（晶體、大分子、生物體等） |
| Senarmont 補償器 (U-CSE) | 0–546 納米 (1λ) | 測量延遲水平（晶體、生物體等）； 增強圖像對比度（生物體等） |
| 支撐-科勒 補償器1/10λ (U-CBR1) | 0–55 納米 (1/10λ) | 低度遲鈍水平的測量（生物體等） |
| 支撐-科勒 補償器1/30λ (U-CBE2) | 0–20 納米 （1/30λ） | 圖像對比度測量（生物體等） |
| 石英楔塊 (U-CWE2) | 500–2200 納米 (4λ) | 延遲水平的近似測量（晶體、大分子等） |
*R = 延遲級別
為了獲得更準確的測量結果，我們建議將補償器（U-CWE2 除外）與干涉濾光片 45-IF546 一起使用
我們的偏光物鏡將內部應變降低。這意味著更高的 EF 值，從而產生出色的圖像對比度。
旋轉臺上安裝的旋轉定心機構可使樣品平穩(wěn)旋轉。此外，每 45 度處都有一個止動機構，可實現(xiàn)精確測量。使用可選的雙機械臺，可以實現(xiàn)謹慎的 XY 移動。
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