桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設備，采用磁控濺射技術(shù)在基片表面沉積薄膜。其核心特點包括：

鋁合金真空腔體：輕量化設計，耐腐蝕性好，適合實驗室或小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境。

單靶配置：支持單一靶材（如金屬、合金或氧化物），結(jié)構(gòu)簡單，操作便捷。

磁控濺射技術(shù)：利用磁場約束等離子體，提高濺射效率，形成均勻、致密的薄膜。

桌面設計：體積小巧，適合科研院所、高校實驗室等空間有限的場所。

應用領(lǐng)域：

該設備廣泛用于材料科學、光學、電子等領(lǐng)域，具體包括：

光學薄膜：如增透膜、反射膜、濾光片等。

電子器件：半導體電極、導電薄膜（如ITO）、傳感器涂層。

功能材料：耐磨涂層（如TiN）、防腐涂層、超硬薄膜（類金剛石）。

科研實驗：新材料開發(fā)、薄膜性能測試、教學演示等。

磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：