目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSH270-I-RF-Q分體式單靶磁控鍍膜儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
本設(shè)備為分體式單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。
本套配置采用石英真空腔體，鍍膜過程全向可視，便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄，腔體設(shè)計(jì)開啟方便，易于清理，十分適合實(shí)驗(yàn)室使用。同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì)，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手。
設(shè)備的真空獲得系統(tǒng)采用兩級真空泵組，前級泵為大抽速機(jī)械泵，有效縮從常壓至低真空的時(shí)間，主泵為渦輪分子泵，抽速高，真空獲取速度更快。 整體真空獲得系統(tǒng)干凈快速。
分體式單靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
項(xiàng)目 | 明細(xì) | |
產(chǎn)品型號 | CY-MSH270-I-RF-Q | |
供電電壓 | AC220V，50Hz | |
整機(jī)功率 | 3KW | |
系統(tǒng)真空 | ≦5×10-4Pa | |
樣品臺 | 尺寸 | 150mm |
加熱溫度 | ≤500℃ | |
旋轉(zhuǎn)速度 | 1-20r/min | |
控溫精度 | ±1℃ | |
磁控濺射頭 | 數(shù)量 | 2英寸 x1 |
冷卻方式 | 水冷 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ270mm X 200mm |
觀察窗口 | 全向可視 | |
開啟方式 | 頂蓋拆卸式 | |
腔體材料 | 高純石英 | |
真空系統(tǒng) | 機(jī)械泵 | CY240 |
抽氣接口 | KF16 | |
抽氣速率 | 1.1L/s | |
分子泵 | CY600 | |
抽氣接口 | KF40 | |
抽氣速率 | 600L/s | |
排氣接口 | KF40 | |
真空測量 | 電阻規(guī)+電離規(guī) | |
供電電源 | AC;220V 50/60Hz | |
氣體控制 | 1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM | |
膜厚測量 | 可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? | |
控制系統(tǒng) | CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng) | |
電源配置 | 直流電源數(shù)量 | 1臺 |
輸出功率 | ≤500W | |
輸出電壓 | ≤600V | |
響應(yīng)時(shí)間 | ＜5ms | |
射頻電源數(shù)量 | 1臺 | |
輸出功率 | ≤1000W | |
功率穩(wěn)定度 | ≤5W | |
測量精度 | ±0.5% | |
測量速度 | 100~1000ms | |
測量上限 | 50000 | |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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