簡介：四氯硅烷是工業化生產中化工原料。同 時，高純度光纖級四氯硅烷還可作為硅外延生產和 大規模集成電路的硅源，在光伏、光纖、半導體等 領域有著廣泛的應用。 近年來隨著我國經濟快速發展，有機硅工業迅猛發 展，其產能與產量呈幾何級增長。目前氯硅烷的工 業生產主要采用直接合成法，該法工藝比較復雜， 副產物較多。主要副產物包括二甲基一氯硅烷、一 甲基二氯硅烷、三甲基一氯硅烷、二甲基二氯硅烷 和一甲基三氯硅烷等高沸物和低沸物。 本文使用珀金埃爾默 GCMS 2400TM的氣相色譜-質譜聯用儀對四氯硅烷中5種常見的甲基氯硅烷進行 定性定量分析，正辛烷為稀釋溶劑，二氯乙烷為內 標，采用全掃描和選擇離子掃描同時監測。該方法 不僅可用于四氯硅烷中含碳化合物的檢測，同時也 可用于三氯氫硅中含碳化物的檢測。分別對3種不 同來源的氯硅烷樣品進行檢測，考察方法對實際樣 品的適用性。5種甲基氯硅烷的名稱及結構式如右 圖1所示：

結果與討論：

01 K值的測定  取0.2 uL甲基氯硅烷混合標準溶液注入氣相色譜-質譜儀進行測定，色譜圖如圖3所示，采用單點校準法。分別測 出各甲基氯硅烷和1,2-二氯乙烷的峰面積，各甲基氯硅烷與內標物1,2-二氯乙烷的相對靈敏度系數即為K值。

03 實際樣品測試 在空樣品瓶中加入5 mL正辛烷，稱其重量，再加入10 uL內標（二氯乙烷）稱其重量，最后再加入2.5 mL氯硅烷 樣品，稱其重量。將樣品混勻后，取0.2 uL注入氣相色譜-質譜儀進行測定，其色譜圖見圖4，然后根據公式計算 各甲基氯硅烷的含量，數值以%表示，見表5。

04 結果與討論 方案中四氯硅烷和三氯氫硅均能與甲基氯硅烷實現分離，因此該方案不僅能滿足四氯硅烷中甲基氯硅烷的分析檢 測(YS/T 1300-2019)，同時能拓展為三氯氫硅中甲基氯硅烷的分析檢測(GB/T 28654-2018)，如圖5。

綜上所述 珀金埃爾默 GCMS 2400TM能充分實現四氯硅烷中甲基氯硅烷的定性和定量分析，儀器和方法具有更強的 應用擴展性，滿足行業的產業升級和法規不斷提升的需求。