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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>去膠機>PPC973 PPC等離子去膠機

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PPC973 PPC等離子去膠機

具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 邁可諾技術有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 PPC973
  • 產地
  • 廠商性質 代理商
  • 更新時間 2025/7/1 11:40:39
  • 訪問次數 2230

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半導體化工領域專業實驗設備供應商:邁可諾是一家富有創新精神的高科技公司,專業提供光電半導體化工實驗室所需設備耗材的全套解決方案提供商,邁可諾從事開發、設計、生產并營銷質量可靠的、安全易用的技術產品及優質專業的服務,幫助我們的客戶和合作伙伴取得成功。我們成功的基礎是幫助客戶做出更好的選擇和決定,尊重他們的決定,并協助他們實現高效率的科研成果,追求豐富有意義的生活。




勻膠機,光刻機,顯影機,等離子清洗機,紫外臭氧清洗機,紫外固化箱,壓片機,等離子去膠機,刻蝕機,加熱板

產地類別 進口 應用領域 化工,能源,電子/電池

PLASMA-PREEN等離子清洗/蝕刻系統是一臺臺式微波等離子清洗機設備。等離子清洗機系統融合了下面的特點,并在眾多的應用領域中得到肯定。

產品特色

負載循環控制,模擬功率控制

處理機存儲

水冷底座

減少污水排放

安全保護設計

操作簡便 維護方便

應用范圍:

混合電路板制造中基片的清洗

打線工藝前清洗電子部件,提高其可靠性

錫焊或焊接工藝前,關鍵性鍍金部件的清洗

清洗半導體元器件

光刻膠去膠

上膠、印刷和其它表面浸濕操作的表面準備

鍍膜前對光學器件清洗

清洗石英、藍寶石及其它材料

適用工藝:

打線墊清洗、減少金屬氧化物、清洗 Pd-Ag 裸芯片墊;

去除光刻膠、塑料表面上膠處理、去除油漬或是環氧殘留物;

清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光學部件、清洗半導體表面、清洗鍍銀部件;

塑膠密封劑去除--失效模式分析

型號

PPC862

PPC973

反應艙尺寸(H*W*D)

203mm x 152 mm x 50mm

229 x 178 x 76 mm

冷卻面(H*W)

203 mm x 152 mm

229 mm x 178 mm

反應艙

方形艙體

方形艙體

反應艙材質

派熱克斯玻璃&鋁材

派熱克斯玻璃&鋁材

水冷式

水冷裝置

水冷裝置

負載比

10%至連續性

10%至連續性

標準流量

5cu-ft./Hr.@STP

5cu-ft./Hr.@STP

頻率(GHz)

2.45 GHz

2.45 GHz

功率(Watts)

100750之間調節

100750之間調節

重量 (Kg)

29.5kg

38.5kg

真空泵系統

抽氣速率3.8cfm/

抽氣速率3.8cfm/



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