KWD 臺(tái)式勻膠機(jī)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 山東元?jiǎng)?chuàng)儀器有限公司
- 品牌
- 型號(hào) KWD
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/2/11 11:25:03
- 訪問(wèn)次數(shù) 788
產(chǎn)品標(biāo)簽
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臺(tái)式勻膠機(jī)型號(hào):KWD
臺(tái)式勻膠機(jī)
:(Spin Coater)適合半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜等其用途廣泛包括適合硅片,晶片,基片,ITO導(dǎo)電玻璃等各種膠體的工藝制版表面涂覆或光刻工藝勻膠。
技術(shù)參數(shù):旋轉(zhuǎn)速度:200-2000rpm,精度:±0.5%
勻膠時(shí)間:3-60s可調(diào)
基材尺寸:Φ200-Φ600 200mm×200mm~500×500mm
適用材料: 硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs、GaN、InP等多種材料
技術(shù)參數(shù):旋轉(zhuǎn)速度:200-2000rpm,精度:±0.5%
勻膠時(shí)間:3-60s可調(diào)
基材尺寸:Φ200-Φ600 200mm×200mm~500×500mm
適用材料: 硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs、GaN、InP等多種材料
電機(jī)功率:320w
LED數(shù)字顯示:轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度:±0.5%,膠的均勻性:±5%
Z大加速度:加速度:≥500rpm/sec
LED數(shù)字顯示:轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度:±0.5%,膠的均勻性:±5%
Z大加速度:加速度:≥500rpm/sec
儀器尺寸:980mm×855mm×855mm
適合半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜等其用途廣泛包括適合硅片,晶片,基片,ITO導(dǎo)電玻璃等各種膠體的工藝制版表面涂覆或光刻工藝勻膠。
技術(shù)參數(shù):旋轉(zhuǎn)速度:200-2000rpm,精度:±0.5%
勻膠時(shí)間:3-60s可調(diào)
基材尺寸:Φ200-Φ600 200mm×200mm~500×500mm
適用材料: 硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs、GaN、InP等多種材料
技術(shù)參數(shù):旋轉(zhuǎn)速度:200-2000rpm,精度:±0.5%
勻膠時(shí)間:3-60s可調(diào)
基材尺寸:Φ200-Φ600 200mm×200mm~500×500mm
適用材料: 硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs、GaN、InP等多種材料
電機(jī)功率:320w
LED數(shù)字顯示:轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度:±0.5%,膠的均勻性:±5%
Z大加速度:加速度:≥500rpm/sec
儀器尺寸:980mm×855mm×855mm
LED數(shù)字顯示:轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度:±0.5%,膠的均勻性:±5%
Z大加速度:加速度:≥500rpm/sec
儀器尺寸:980mm×855mm×855mm