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極紫外 (EUV) 球面反射鏡

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韻翔光電 是一家專注于光譜科技和應用開發的企業,提供紫外,可見,近紅外到中紅外范圍的產品,包括光譜應用系統,光譜儀,光源,光纖,積分球,光學元件,光學機械,二次應用開發等產品和服務。為科研院所和企業客戶提供專業的應用咨詢服務和產品解決方案。韻翔光電專業代理美國Edmundoptics,美國Thorlabs,德國Layertec,美國Inphotonics,美國FJW,美國Ocean Optics等品牌的產品,能夠為客戶提供專業的產品*和售后技術支持,提供設計開發解決方案。

 

光譜應用系統,光譜儀,光源,光纖,積分球,光學元件,光學機械

價格區間 面議 應用領域 電子/電池,航空航天,綜合
組件類別 光學元件

極紫外 (EUV) 球面反射鏡

超拋光基片上的/硅多層鍍膜

13.5nm 下可實現的大反射

設計用于 EUV 光束聚焦應用

適用于 HHG 應用的窄通帶

極紫外 (EUV) 球面反射鏡 具有多層鉬/硅鍍膜,在 13.5nm 下的反射率大于 60%。它們專為 5o 入射角設計,并用于聚焦非偏振 EUV 激光源。表面粗糙度小于 3? RMS,可大程度地降低散射。這對 EUV 波長*,因為 EUV 波長的散射比長波長更多. EUV 球面反射鏡的通帶非常窄,約為 0.5nm,確保只會在高諧波生成 (HHG) 應用中反射 13.5nm 的關注諧波。EUV  球面反射鏡的典型應用包括相干衍射成像 (CDI)、EUV 成像和 EUV 納米加工.

注意:
每個反射鏡均附運行樣本的測試數據.

極紫外 (EUV) 球面反射鏡產品信息

DWL (nm)Dia. (mm)EFL (mm)涂層涂層規格產品編碼
13.525.40250.00Mo/Si Multilayer
Layer: Silicon
Rabs>60% @ 13.5nm#11-730


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