平臺(tái)隔振地腳大多數(shù)光學(xué)實(shí)驗(yàn)或工業(yè)生產(chǎn)都對(duì)系統(tǒng)穩(wěn)定性有較高的要求。各種因素造成的振動(dòng)會(huì)導(dǎo)致儀器測(cè)量結(jié)果的不穩(wěn)定性和不準(zhǔn)確性，嚴(yán)重干擾生產(chǎn)和實(shí)驗(yàn)的進(jìn)行，振動(dòng)來源主要分為來自系統(tǒng)之外的振動(dòng)和系統(tǒng)內(nèi)部的振動(dòng)，地面固有振動(dòng)，工作人員踩踏地板以及開、關(guān)門或墻壁碰撞等通過地面?zhèn)鱽淼恼駝?dòng)均屬系統(tǒng)之外的振動(dòng)，這一類振動(dòng)需通過光學(xué)平臺(tái)的隔振支架衰減；而來自系統(tǒng)內(nèi)部的振動(dòng)包括儀器振動(dòng)、氣流、冷卻水流等，則需依靠光學(xué)平臺(tái)的桌面阻尼來隔絕。

  隨著光學(xué)加工設(shè)備和測(cè)量?jī)x器精度的不斷提高， 其對(duì)工作環(huán)境的振動(dòng)隔離提出了更加嚴(yán)苛的要求。例如，離子激光器泵浦噴流染料激光器時(shí)，激光器的振動(dòng)要求達(dá)到了微米級(jí)；由于可見光波長(zhǎng)約為0.5微米，即使振動(dòng)在次微米級(jí)別時(shí)，以光的干涉為基礎(chǔ)的實(shí)驗(yàn)（如全息攝影） 也將無法進(jìn)行； LμmArray 公司的并行激光直寫設(shè)備的直寫頭振動(dòng)線位移不能超過15nm ;超精密機(jī)械加工的表面粗糙度要求已經(jīng)達(dá)到 0.1nm  ;高精度掃面探針顯微鏡的雙向分辨率都已達(dá)到亞納米級(jí)。因此，對(duì)光學(xué)加工設(shè)備及光學(xué)測(cè)量?jī)x器進(jìn)行有效的隔振是保證科研生產(chǎn)活動(dòng)正常進(jìn)行的必要條件。

同時(shí)，對(duì)于大型精密光學(xué)儀器來說，其除了有近乎嚴(yán)苛的隔振要求外，儀器本身往往還具有較大的體積和質(zhì)量，這對(duì)作為隔振基礎(chǔ)的光學(xué)隔振平臺(tái)的承載能力和工作空間也提出了更進(jìn)一步的要求。因此，隔振性能好、承載能力強(qiáng)、工作空間大的大型或超大型精密光學(xué)隔振平臺(tái)具有了較大的市場(chǎng)需求。

平臺(tái)隔振地腳創(chuàng)譜儀器自主研發(fā)生產(chǎn)的光學(xué)隔振平臺(tái)廣泛的應(yīng)用于精密科研光學(xué)試驗(yàn)、加工及測(cè)量中，是您理想的選擇。提供各種各樣隔振地腳，適用于光學(xué)平板系列，材質(zhì)為橡膠