1. 產(chǎn)品概述

FLOURIS 201系列 8英寸立式爐，高精度溫度場控制技術(shù)，可實(shí)現(xiàn) 1200℃ 內(nèi)氧化退火工藝。

2. 設(shè)備用途/原理

FLOURIS 201系列 8英寸立式爐，高精度溫度場控制技術(shù)，可實(shí)現(xiàn) 1200℃ 內(nèi)氧化退火工藝，優(yōu)良的顆粒控制技術(shù)，優(yōu)良的膜厚均勻性控制技術(shù)，圖形化操作界面和群組管理系統(tǒng)。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

晶圓尺寸 8 英寸，適用材料 硅、碳化硅。適用工藝 高溫氧化、退火、常壓合金、Polyimide 固化。適用域 科研、化合物半導(dǎo)體、集成電路。百科：半導(dǎo)體立式爐?的原理主要涉及到半導(dǎo)體材料的熱處理過程，這一過程在半導(dǎo)體制造中至關(guān)重要。立式爐的設(shè)計(jì)允許對半導(dǎo)體材料進(jìn)行精確的溫度控制和氣氛管理，從而促進(jìn)材料的特定化學(xué)反應(yīng)，如外延生長等。