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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>濕法工藝設備>濕法清洗設備>TSC-150C/200C CMP后清洗機

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TSC-150C/200C CMP后清洗機

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CMP后清洗

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項，軟件著作權 14 項，是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺，快速退火爐，光刻機，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發


該系列設備是碳化硅晶圓拋光后的專用清洗設備，采用連線式結構，設備加配全自動上下片系統。該系列設備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，占地面積小，濕進干出，適用于碳化硅晶圓拋光后的清洗。

產品特點

全自動系統

皮帶傳動， cassette in/out 干進干出

PLC控制系統

觸摸屏操作

清洗工藝

預清洗/雙面刷洗/藥液噴霧漂洗 /兆聲噴淋/高速甩干/氮氣吹干

刷子類型

PVA 刷, 雙面刷洗

性能參數

規格/參數TSC-150CTSC-200C
工藝雙面刷洗雙面刷洗
清洗工位皮帶傳送式6工位皮帶傳送式6工位
上下片全自動全自動
晶圓尺寸3-6 inch6-8 inch
上料位浸沒式浸沒式
漂洗（預清洗）DIW沖洗DIW沖洗
刷洗工位*22個PVA刷，雙面刷洗2個PVA刷，雙面刷洗
PVA刷轉速30-400 RPM30-400 RPM
兆聲清洗可選可選
氮氣吹干有有







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