200L CMP后清洗機

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CMP

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公司介紹 主營產品

深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項，軟件著作權 14 項，是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

展開

冷熱臺，快速退火爐，光刻機，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發

該系列設備是晶圓CMP后的用清洗設備，有單工位、轉位式、連線式等不同結構，以適用不同應用場景，其中連線式設備加配全自動上下片系統。該系列設備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，占地面積小，濕進干出，適用于各類CMP后晶圓的清洗。

功能齊全

系列設備均配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能

操作簡便

PLC系統，觸摸屏控制，一鍵式自動完成刷洗清洗加工，其中連線式設備配有全自動上下片系統，cassette to cassette使用更加方便

兼容性好

通過更換夾具，可兼容4-12英寸晶圓

占地面積小

盡量減少潔凈間的占地面積

產品參數