化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>干法工藝設(shè)備>等離子體刻蝕設(shè)備>Vision 310 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)
Vision 310 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)
- 公司名稱 岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) Vision 310
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/7/31 11:13:18
- 訪問(wèn)次數(shù) 71
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1.靈活的沉積能力
·基于硅的沉積工藝-氧化物、氮化物、氧氮化物、非晶硅(a-Si)、碳化硅(SiC)
·研究與開(kāi)發(fā)
·原型制作
·小批量生產(chǎn)-光子學(xué)、固態(tài)照明、MEMS和納米技術(shù)
·應(yīng)用領(lǐng)域:層間絕緣層、鈍化層、封裝層、掩模層、抗反射層
2.性能價(jià)值
1.大尺寸手動(dòng)裝載載物臺(tái)(406mm)
2.出色的潔凈度
3.高均勻性
4.高吞吐量
5.可靠的軟件
6.小巧的占地面積
7.具有成本效益
8.易于維護(hù)
9.采用行業(yè)頭部組件
3.經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的解決方案
·廣泛的“交鑰匙”工藝
·通過(guò)優(yōu)化的噴淋頭實(shí)現(xiàn)高薄膜均勻性
·高標(biāo)準(zhǔn)的利用率和可靠性--采用一級(jí)(Tier Ⅰ)OEM組件、快速抽真空、可選原位終點(diǎn)檢測(cè),避免過(guò)度清洗
·享有認(rèn)可的服務(wù)與支持
·通過(guò)低頻或氦氣稀釋實(shí)現(xiàn)應(yīng)力控制