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光催化實驗_光纖光源_紫外光源
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貨物所在地:北京北京市

更新時間:2025-01-23 21:00:07

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光源產生穩定的160-400nm的輸出光譜。其峰-峰穩定性小于0.005%,漂移僅為+/-0.5%每小時。
主要特點:深紫外覆蓋。覆蓋范圍是160-400nm。峰-峰穩定性小于0.005%的超級穩定光源輸出。
主要應用:半導體檢測、薄膜厚度測量、靜電去除器、光譜學、環境計量、光學元件檢測、材料抗紫外性測試和激發光源等。光催化實驗_光纖光源_紫外光源

光源產生穩定的160-400nm的輸出光譜。其峰-峰穩定性小于0.005%,漂移僅為+/-0.5%每小時。

 

主要特點:

深紫外覆蓋。覆蓋范圍是160-400nm。

峰-峰穩定性小于0.005%的超級穩定光源輸出。

主要應用:

半導體檢測、薄膜厚度測量、靜電去除器、光譜學、環境計量、

光學元件檢測、材料抗紫外性測試和激發光源等。

光學系統:

 

 

光譜數據:

 

 

 

光譜曲線1(MgF2窗口)

 

光譜曲線2(硅、紫外玻璃)

 

光穩定性

技術參數:

功率: 

830 mA @ 230 VDC

波長范圍: 

190-400 nm (深紫外燈)

峰-峰穩定性: 

<0.005% at 230 nm

漂移: 

+/-0.5% per hour at 230 nm

40 分鐘

電壓和電流: 

Ignition 350V/20 A operating 85 V/0.3A

燈泡壽命: 

1,000 小時

工作溫度: 

5 ℃ - 35 ℃

濕度: 

5-95%無冷凝 40 ℃

輻射特性: 

0.5mm縫,數字狹縫26度(13度)

光催化實驗_光纖光源_紫外光源

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