理化公司成為美國JC Nabity公司NPGS納米圖形發生系統中國地區授權代理商。美國JC Nabity Lithography Systems成立于1988年，公司成功研發了基于改造SEM、STEM或FIB的電子束曝光裝置（Nanometer Pattern Generation System納米圖形發生系統，簡稱NPGS，又稱電子束微影系統）。電子束曝光技術具有可直接刻畫精細圖案的優點，且高能電子的波長短（< 1 nm），可避免繞射效應的困擾，是實驗室制作微小納米電子元件*的選擇。相對于購買昂貴的電子束曝光機臺，以既有的SEM等為基礎，外加電子束控制系統，透過電腦介面控制電子顯微鏡中電子束之矢量掃描，以進行直接刻畫圖案，在造價方面可大幅節省，且兼具原SEM 的觀測功能，在功能與價格方面均具有優勢。由于其具有高分辨率以及低成本等特點，在北美研究機構中，JC Nabity的NPGS是的配套于掃描電鏡的電子束微影曝光系統，而且它的應用在世界各地越來越廣泛。
        NPGS的技術目標是提供一個功能強大的多樣化簡易操作系統，結合使用市面上已有的掃描電鏡、掃描透射電鏡或聚焦離子束裝置，用來實現藝術級的電子束或離子束平版印刷技術。NPGS能成功滿足這個目的，得到了當前眾多用戶的強烈推薦和一致肯定。