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XRF-2000
閱讀：550 發(fā)布時間：2017-4-6
熒光X-射線儀器的測量原理
物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài)，此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來，而此時是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來。熒光X射線鍍層厚度測量儀或成分分析儀的原理就是測量這被釋放出來的熒光的能量及強度，來進行定性和定量分析。
鍍層厚度的測量方法可分為標(biāo)準(zhǔn)曲線法和FP法（理論演算方法）
底材的熒光X射線
2種。標(biāo)準(zhǔn)曲線法是測量已知厚度或組成的標(biāo)準(zhǔn)樣品，根據(jù)熒光
X射線的能量和強度及相應(yīng)鍍層厚度的對應(yīng)關(guān)系，來得到標(biāo)準(zhǔn)曲線。
之后以此標(biāo)準(zhǔn)曲線來測量未知樣品，以得到鍍層厚度或組成比率。
FP法即是Fundamental Parameter Method的簡稱,即基本參數(shù)法