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安東帕(上海)商貿有限公...

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MCR 流變儀/動態機械分析儀樣本

閱讀:259      發布時間:2019-08-16
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對流輻射溫控系統

有多種對流輻射溫控系統可供選擇,能滿足您對溫度范圍的要求。雖然通常使用CTD 600 TDR和CTD 450 TDR基本可以滿足所有應用需求,但是CTD 180 是wei一一個基于 Peltier 技術的對流控溫系統,無需使用液氮即可進行低溫測量。 CTD 1000 溫控設備主要用于玻璃或鋁熔體等非聚合物樣品。

CCD 數字眼攝像頭

使用數字眼記錄并顯示圖像或視頻數據組,之后選擇直接顯示在圖表中,并分配到其對應時間的測量點。

其他特性的測量

憑借 MCR 流變儀的 Toolmaster™ 功能(自動識別和配置所連接的設備)以及高精度法蘭,該儀器可輕松快速地裝配設備,例如用于對高性能塑料和潤滑油進行摩擦分析的摩擦學系統,或者用于 SAXS 或 SALS 系統或介電譜-流變學設備等結構分析的光學測量系統或介電測量系統。

CTD 180 濕度附件

相對濕度影響樣品的流變學和力學特性。CTD 180 對流控溫設備的濕度選項,能夠在控制溫度和濕度的條件下進行流變測量和動態力學分析,可以用于防止樣品干燥。該選項允許在受控濕度下研究材料的特性。

液氮蒸發控制單元

液氮蒸發控制單元 (EVU) 可準確控制溫度(從 -160 °C 起),而無溫度梯度。液氮在單獨的儲罐中被持續蒸發,并被傳輸至測量池中。這種持續蒸發無脈沖式控制,有利于的溫度控制,這是電磁閥脈沖式控制無法達到的。

提供商

安東帕(上海)商貿有限公司

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