超組合——AFM和GISAXS表征多孔薄膜
在這個世界上個體的力量是有限的,
80/90的小伙伴們都知道,
在龍珠里
悟空和貝吉塔的合體
才是燃時刻
才能打敗強大的敵人!
做實驗也是一樣的道理哦!
使用Tosca™ 400和SAXSpoint 2.0系統
來表征垂直基底的多孔結構聚合物薄膜。
掠入射小角X射線散射(GISAXS)
是一種用于分析納米尺度表面結構
高度靈敏的測量方法
給出一個大樣品面積上的平均信息。
原子力顯微鏡(AFM)能提供
局部表面結構的高空間分辨率的直接可視信息。
這使得兩種方法在納米結構表面表征上互補。
Anton Paar –讓膜研究更易進行
納米孔膜具有高超的潛力
如:現代電池和能量轉換應用,以及水處理領域。
這類樣品的孔隙結構的表征
對它的性能是極其重要的。
這里我們展示的是對厚度為100 nm
垂直硅基底的多孔高分子膜的表征。
Tosca™ 400 – 高度自動化工業AFM提供的圖片分辨率和高樣品通量。
SAXSpoint 2.0 – 多用途點準直SAXS儀器,提供高分辨率和光通量,使得它成為膜研究的工具。
Fig. 1: 納米多孔PE/PEG薄膜水平方向一維切面的二維GISAXS圖樣(左)和AFM形貌圖(右)。
左邊的圖是用SAXSpoint 2.0系統研究結構的GISAXS圖樣。從反射圖上計算得到孔-孔間距大約50 nm。從相應的反射位置(見插圖)看,孔的六方排布可見。
右邊的圖顯示的是相應的AFM形貌圖,使用Anton Paar新的AFM Tosca™ 400獲得。它證實了孔是六方排布,周期性50 nm和平均孔直徑為20 nm。
超組合——AFM和GISAXS表征多孔薄膜
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做實驗也是一樣的道理哦!
使用Tosca™ 400和SAXSpoint 2.0系統
來表征垂直基底的多孔結構聚合物薄膜。
掠入射小角X射線散射(GISAXS)
是一種用于分析納米尺度表面結構
高度靈敏的測量方法
給出一個大樣品面積上的平均信息。
原子力顯微鏡(AFM)能提供
局部表面結構的高空間分辨率的直接可視信息。
這使得兩種方法在納米結構表面表征上互補。
Anton Paar –讓膜研究更易進行
納米孔膜具有高超的潛力
如:現代電池和能量轉換應用,以及水處理領域。
這類樣品的孔隙結構的表征
對它的性能是極其重要的。
這里我們展示的是對厚度為100 nm
垂直硅基底的多孔高分子膜的表征。
Tosca™ 400 – 高度自動化工業AFM提供的圖片分辨率和高樣品通量。
SAXSpoint 2.0 – 多用途點準直SAXS儀器,提供高分辨率和光通量,使得它成為膜研究的工具。
Fig. 1: 納米多孔PE/PEG薄膜水平方向一維切面的二維GISAXS圖樣(左)和AFM形貌圖(右)。
左邊的圖是用SAXSpoint 2.0系統研究結構的GISAXS圖樣。從反射圖上計算得到孔-孔間距大約50 nm。從相應的反射位置(見插圖)看,孔的六方排布可見。
右邊的圖顯示的是相應的AFM形貌圖,使用Anton Paar新的AFM Tosca™ 400獲得。它證實了孔是六方排布,周期性50 nm和平均孔直徑為20 nm。
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