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X熒光光譜儀檢測電鍍鍍層厚度的原理是什么?

閱讀:191      發(fā)布時間:2025-7-1
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X熒光光譜儀檢測電鍍鍍層厚度的原理,主要是基于X射線與物質(zhì)的相互作用,具體如下:

 

原理核心

 

當X射線照射到電鍍鍍層表面時,鍍層中的原子會被激發(fā),從而發(fā)射出具有特定能量的熒光X射線(特征X射線)。不同元素的特征X射線能量不同,且其強度與鍍層的厚度相關(guān)。通過檢測這些熒光X射線的能量和強度,結(jié)合相應(yīng)的物理模型和算法,即可計算出鍍層的厚度。

 

簡單理解類比

 

就像用光照一疊紙,紙越厚,透過的光強度越弱。X熒光光譜儀則是通過檢測X射線穿過鍍層后(或被鍍層反射的)特征信號強度,來反推鍍層的“厚度"。

 

關(guān)鍵優(yōu)勢

 

- 非破壞性:無需破壞樣品,可直接檢測。

- 多元素同時分析:能同時檢測多種金屬鍍層(如鎳、銅、鉻等)的厚度。

- 快速精準:幾分鐘內(nèi)即可得到結(jié)果,適合工業(yè)生產(chǎn)中的質(zhì)量監(jiān)控。


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