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ELS-F125/F100/HS50-電子束曝光系統
  • ELS-F125/F100/HS50-電子束曝光系統
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貨物所在地:上海上海市

更新時間:2025-04-07 21:00:08

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ELS-F125是Elionix推出的世界上1st臺加速電壓達125KV的電子束曝光系統,其可加工線寬下限為5nm的精細圖形。(以下參數基于ELS-F125)

電子束曝光系統ELS-F125具有以下優點:

l  超高書寫精度

- 5 nm 線寬精度 @125 kV

- 1.7 nm 電子束直徑&鄰近效應小化 @125 kV


l  大通量、均勻性好

- 寬視野書寫:500um視場下10 nm線寬

- 高束流下電子束直徑依然很小,大通量而不影響分辨率,2 nm電子束直徑@1 nA


l  界面用戶友好

基于Windows系統的CAD和SEM界面:

-簡單易用的圖案設計功能

-易于控制的電子束條件


二、電子束曝光系統主要功能:

l  主要應用

納米器件的微結構

集成光學器件,如光柵,光子晶體等

NEMS結構,復雜精細結構

光刻掩模板,壓印模板

l  技術能力


三、應用:





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