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還原氣氛爐廠家廣泛應(yīng)用于實驗室、工礦企業(yè)、科研單位的前期實驗，還原氣氛、惰性氣氛、氫氮混合氣氛等多種類型，額定溫度分別為1100℃、1300℃、1500℃、1600、1700℃，根據(jù)不同的氣氛，不同的溫度，使用不同的加熱元件，型號齊全，安全可靠，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造。

一、還原氣氛爐廠家產(chǎn)品用途：

箱式氣氛爐又簡稱氣氛爐，主要用于金屬，陶瓷，粉末冶金等相關(guān)材料的燒結(jié)，退火爐，回火等的熱處理。

二、還原氣氛爐廠家產(chǎn)品規(guī)格：

1、1700℃氣氛爐

型號	爐膛尺寸（mm）D×W×H	外形尺寸（mm）D×W×H	功率（kw）	zui高溫度℃	額定溫度℃	加熱元件	電壓	升溫速率	重量
HMX1700-10	110×100×100	650×750×1050	2	1700	1600	硅鉬棒	220V	≤10℃/min
HMX1700-30	300×200×200	650×750×1050	7	1700	1600	硅鉬棒	220V	≤10℃/min
HMX1700-40	400×300×300	650×750×1050	16	1700	1600	硅鉬棒	380V	≤10℃/min

2、1600℃氣氛爐

型號	爐膛尺寸（mm）D×W×H	外形尺寸（mm）D×W×H	功率（kw）	zui高溫度℃	額定溫度℃	加熱元件	電壓	升溫速率	重量
HMX1600-10	110×100×100	650×750×1050	2	1600	1500	硅鉬棒	220V	≤10℃/min
HMX1600-30	300×200×200	650×750×1050	7	1600	1500	硅鉬棒	220V	≤10℃/min
HMX1600-40	400×300×300	650×750×1050	16	1600	1500	硅鉬棒	380V	≤10℃/min

3、1400℃氣氛爐

型號	爐膛尺寸（mm）D×W×H	外形尺寸（mm）D×W×H	功率（kw）	zui高溫度℃	額定溫度℃	加熱元件	電壓	升溫速率	重量
HMX1400-30	300×200×200	650×750×1450	7	1400	1300	硅碳棒	220V	≤10℃/min
HMX1400-40	400×300×300	650×750×1450	12	1400	1300	硅碳棒	380V	≤10℃/min

4、1100℃氣氛爐

型號	爐膛尺寸（mm）D×W×H	外形尺寸（mm）D×W×H	功率（kw）	zui高溫度℃	額定溫度℃	加熱元件	電壓	升溫速率	重量
HMX1100-30	300×200×200	480×650×1250	4	1100	1050	電阻絲	220V	≤10℃/min
HMX1100-40	400×300×300	480×650×1250	12	1100	1050	電阻絲	380V	≤10℃/min

備注：我公司可定制各種非標(biāo)爐，不同爐膛尺寸、不同溫度范圍內(nèi)的箱式爐，氣氛爐，管式爐，真空爐等。洽談。

：，，歡迎客戶。

可控氣氛爐廠家主要供大專院校、科研單位針對無機材料在真空（或保護氣氛）熱壓條件下進行燒結(jié)處理，以便獲得高致密度的產(chǎn)品。

這款高溫真空氣氛爐以1800型硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和50段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末、陶瓷燒結(jié)、高溫實驗、質(zhì)量檢測用的理想產(chǎn)品。

真空氣氛爐廠家以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu),爐殼采用全不銹鋼，控溫系統(tǒng)采用廈門宇電51段程序，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，真空電阻爐廣泛應(yīng)用于金屬材料在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理；也可以用于特殊材料的熱處理。

上海箱式氣氛爐廣泛應(yīng)用于實驗室、工礦企業(yè)、科研單位的前期實驗，還原氣氛、惰性氣氛、氫氮混合氣氛等多種類型，額定溫度分別為1100℃、1300℃、1500℃、1600、1700℃，根據(jù)不同的氣氛，不同的溫度，使用不同的加熱元件，型號齊全，安全可靠，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造。

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