文中提出了一種新的低速浸涂技術，用于從無有機添加劑的水溶液中制備金屬氧化物薄膜，其中，在*的浸涂過程中，通過蒸發驅動的沉積可在基材上形成膜 在25至60℃的溫度恒溫箱中，基材的取出速度低于1.0 cm min-1。 通過低速浸涂分別從SnCl4和TiOSO4水溶液中獲得透明，無裂紋的SnO2和TiO2前驅膜。 通過在空氣中在700℃下熱處理10分鐘，將由此獲得的前體薄膜結晶為SnO2和TiO2薄膜。
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