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真空熔煉爐

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所  在  地上海市

更新時間：2025-07-20 12:58:35瀏覽次數：5307次

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真空熔煉爐用途：適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業理想的實驗和生產設備

 

真空熔煉爐
GR.VMF系列真空熔煉爐詳細介紹
GR.VMF系列，具有*的性能設計，集多項于一身，安全性，可靠性，實用性均達*效果。
小型廣泛應用于大專院校及科研單位，在真空或保護氣氛條件下對金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉處理，也可進行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。
一、技術參數
1．設備名稱：真空感應熔煉爐
2．冷態極限真空度：5×10﹣3Pa
3．額定溫度：1700℃
4. 額定功率：15KW
5. ;坩堝容量：100g～500g（熔液）
6．壓升率：≤2Pa／h
7．中頻電源：IGBT
二、結構說明
本產品由爐蓋、爐體、回轉機構、澆注裝置、真空系統及高頻電源控制系統等組成。
1、爐體：為全不銹鋼結構。爐殼采用雙層水冷結構，爐殼溫度不超過50℃。爐蓋打開方式為手動，并加有鎖緊裝置，爐蓋上設有觀察孔及屏蔽等。
2、回轉機構：與爐體用法蘭連接，感應線圈由銅管繞成螺旋形從爐體引出，采用威爾遜密封，密封可靠。
3、澆注裝置：在坩堝旁邊從爐體內生一平臺，上面放置錠模，料熔煉好以后轉動手柄，將坩堝內的料傾倒在錠模內。
4、真空系統：采用二級泵，油擴散泵（或分子泵）與直聯泵。真空機組上設有放氣閥及充氣閥。
5、電源：電源采用IGBT進口功率器件，更加集成化小型化，有效輸出功率達到90%以上，省電節能，比傳統可控硅中頻節能60%！，電氣系統設有過流、過壓返饋及保護電路。

 

 

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