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一、真空箱式爐應用領域
該真空箱式爐以1800型硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和廈門宇電50段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，真空電阻爐廣泛應用于金屬材料在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理；也可以用于特殊材料的熱處理。
二、真空箱式爐主要特點
爐門口安裝有水冷系統，氣體經過流量計后由后膛進入，并有多處洗爐膛進氣口，出氣口處有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮氣等氣體，能抽真空，真空度可達1pa,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點，是高校、科研院所、工礦企業做氣氛保護燒結、氣氛還原用的理想產品。
三、真空箱式爐規格型號
設備型號 GR.VBF8/16 GR.VBF12/16 GR.VBF18/16 GR.VBF36/16 zui高溫度 1600℃ 1600℃ 1600℃ 1600℃ 額定溫度 1500℃ 1500℃ 1500℃ 1500℃ 控制精度 ±1℃ ±1℃ ±1℃ ±1℃ 爐膛尺寸（mm）
（DxH）200×200×200 300×200×200 300×250×250 400×300×300 發熱元件 硅鉬棒 硅鉬棒 硅鉬棒 硅鉬棒 冷態極限真空 1pa 1pa 1pa 1pa 冷態壓升率 ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h zui大功率 4kw 7kw 9kw 16kw
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