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真空碳管爐適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業理想的實驗和生產設備

GR.VCTF系列真空碳管爐的詳細介紹

GR.VCTF系列真空碳管爐，具有*的性能設計，集多項于一身，安全性，可靠性，實用性均達*效果。

一、的結構簡介：

本產品由爐蓋、爐體、爐底、真空系統及電氣控制系統等組成。

爐蓋、爐體及爐底均采用雙層水冷結構，保持爐殼溫度不超過60℃。爐蓋打開方式為手動，爐蓋上設有觀察孔。爐體內有用石墨做成的保溫層，發熱元件采用石墨棒。1000℃-2300℃采用紅外為傳感器。

真空系統采用二級泵，即650分子泵與2X-15機械泵，機械泵上設有電磁放氣閥避免停電后返油。真空機組上設有放氣閥及充氣閥。

電氣控制采用大電流變壓器、調壓器及溫度控制儀表組成溫度控制執行回路。電路設有斷水、過流、超溫報警及保護功能。

二、的技術參數：

1.額定功率：50KW

2.zui高溫度：2500℃

3.工作區尺寸：Ф60×120

4.極限真空度：6.67×10-4Pa

5.溫度控制：紅外自動控制

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