材料中的很多成份，以不同角度入射，得到的透射率和反射率會因入射角度變化而變化。通過測量不同角度入射，研究材料的zui敏感角度，為進一步研究或設計測量儀器提供依據。

RTM-VA全角度光譜測量臺可以搭配光譜儀、光源及其他測量附件，可以對材料進行不同角度入射和接收的光譜測量，適用于各種表面平整的樣品光譜測量。采用電控獨立雙軸設計，高精度步進電機控制發射端和接收端的角度，角分辨率達0.05°。光譜范圍220-2500nm(可選擇不同配置），電腦軟件選擇發射端和接收端的角度，實現快速的光譜測量，能夠滿足透射/反射/散射/熒光/輻射等多種模式的全角度光譜測量應用的需求。

入射端帶有一個旋轉偏振片架和一個濾波片架，可以放置一個偏振片和濾波片。接收端帶有一個濾波片架，可以放置一個濾波片、偏振片或者波片。各種波長的范圍的偏振片、濾波片和波片可供選擇。

應用領域

• LED光源等
• 材料鍍膜
• 光子晶體器件
• 液晶顯示
• 傳感器器件制備
• 角度材料相關分析
• 納米光學材料

主要特點

• 全角度測量：發射端角度范圍0°至180°，接收端角度范圍0°至360°，可以實現反射、透射、散射、熒光和輻射的全角度光譜測量。
• 精確角度控制：高精度電機，角度精度及重復性能優異。
• 多光譜測量模式：可以實現上反射、下反射、透射、散射/熒光、輻射等多種光譜測量。
• 可編程測量模式：可以通過編程，來實現自動多角度光譜測量。
• 自由測量模式：可以任意控制樣品臺的入射角、接收角，實現光譜測量。
• 可選配件多樣：根據客戶的不同測量應用，可以選擇不同的光源、濾光片、偏振片等配件完成不同的測量應用。
• 多維調節樣品臺：樣品臺由高精度三維位移臺和二維傾斜臺組成，可實現樣品的五維正交調節。

光譜角度測量模式

反射測量（上反射/下反射）模式	透射測量模式
散射/熒光測量械	輻射測量模式

參數指標

可選配件