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SENTECH激光橢偏儀SE800PV

紋路晶片

防反射涂層和鈍化層可以在單晶和多晶硅晶片上測量。

疊層防反射涂層

可以分析SiO2/SiNx、Al2O3/SiNx和SiNx1/SiNx2的涂層。

操作簡單

不管是專家還是初學者，光譜橢偏儀SE 800 PV都提供了簡單的操作。配方模式特別適合質量控制所需的常規應用。

SENTECH激光橢偏儀SE800PV

光譜橢偏儀SE 800 PV是分析結晶和多晶硅太陽能電池防反射膜的理想工具?？梢詼y量單層薄膜(SiNx、SiO2、TiO2、Al2O3)和多層疊層膜(SiNX/SiO2、SiNx1/SiNx2、SiNx/Al2O3)。

SE 800 PV是基于步進掃描分析器測量模式。步進掃描分析器模式允許將測量參數匹配到粗糙的樣本表面，同時所有光學部件都處于靜止狀態。SE 800 PV的光源、光學部件和檢測器進行了優化，以符合SENTECH的目標，即快速、準確地測量PV應用的折射率指數、吸收和膜厚。

高測量靈敏度、去偏振校正和特殊的集光光學使SE 800 PV成為在粗糙樣品表面進行光伏應用的理想儀器。

光譜橢偏儀SE 800 PV具有操作簡單的特點、便于研發應用。SpectraRay/4，SENTECH專有的橢偏儀軟件，包括兩種操作模式。配方模式允許在質量控制中輕松執行常規應用程序。交互模式具有指導性的圖形用戶界面，適合于研發應用和新配方的開發。

此外，SE 800 PV滿足SENresearch光譜橢偏儀系列的所有要求。