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氧化還原電位（Eh）作為介質(zhì)（包括土壤、水、培養(yǎng)基等）環(huán)境條件的一個(gè)綜合性指標(biāo)，已沿用很久，它表征介質(zhì)氧化性或還原性的相對(duì)程度。長(zhǎng)期以來(lái)氧化還原電位是采用鉑電直接測(cè)定法。即將鉑電和參比電直接插入介質(zhì)中來(lái)測(cè)定。
一、指標(biāo)：
測(cè)量范圍： ±1999mv 0.0-100℃
解 析 度： 1mV 0.1℃
精 度 :1mV 0.1mV（200mV以內(nèi)）
校正方式：一點(diǎn)或二點(diǎn)手動(dòng)校正（pH4.0、9.18）
溫度補(bǔ)償：0-50℃自動(dòng)溫度補(bǔ)償
輸入阻抗：1012Ω
適用環(huán)境：0-50℃ 85%RH
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