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高溫真空退火爐的特點

閱讀:1286        發布時間:2022/5/12
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儀器介紹

 

  華測儀器通過多年研究開發了一種可實現,高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置儀器——高真空退火爐。它能在高速加熱高速冷卻時,具有良好的溫度分布。設備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。可實現寬域均熱區,高速加熱、高速冷卻,用石英管保護加熱式樣,無氣氛污染。可在高真空,高出純度氣體中加熱。還能節省時間并提高實驗速度;不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求;安裝簡單,有冷卻系,可靠;提高試驗人員的工作效率,實現全溫度控制操作。



設備特點


1.高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時體可配置水冷,增設氣體冷卻裝置,可實現快速冷卻。

2.溫度控制

通過紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用,可以控制樣品的溫度。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供。

3.清潔加熱

反射鏡是用曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱,和其他模型:rhl-p,RHL PS和RHL PSS

4.不同環境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環境,低溫(高純度惰性氣體靜態或流動),操作簡單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。






可按用戶要求訂制非標產品


華測儀器--致力于材料電學測試技術



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