產品簡介
詳細介紹
MultiPrep?系統適用于高精微(光鏡,SEM,TEM,AFM等)樣品的半自動準備加工。主要性能包括平行拋光、精確角拋光、定址拋光或幾種方式結合拋光。它保證良好的重現性,可以解決多用戶使用的矛盾。 MultiPrep 無須手持樣品,保證只有樣品面與研磨劑接觸.
雙測微計(傾斜度和擺動度)允許相對于研磨盤進行精確的樣品傾斜度調整;精密的Z-軸指示器保證在整個研磨/拋光過程中維持預定義的幾何方向。
數字指示器可以量化材料去除率,可以實時監測或進行預先設定的無人操作;可變速的旋轉和振蕩,能夠zui大限度地提高整個研磨/拋光盤的使用和減少手工制品;可調負荷控制,擴大了其從小樣品(易碎樣品)到大樣品的*處理能力。
常見的應用包括并聯電路層級,橫截面,楔角拋光等。
特點:
- 前數字指示器顯示實時的材料去除率(樣品的行程),1微米分辨率
- 精確主軸設計保證樣品垂直于研磨盤,使之同時旋轉。
- 雙軸測微計控制樣品角坐標設置(斜度和擺度),+10°/-2.5°幅度, 0.01° 增量。
- 后置的數字指示器顯示垂直位置(靜態),具有歸零功能,1微米分辨率
- 6倍速樣品自動擺動。
- 齒輪傳動主軸應用于要求較高的轉動力矩,如較大或封裝的樣品。
- 凸輪鎖緊鉗無需其他輔助工具,方便用戶重新設置工作夾具。
- 8倍速樣品自動旋轉。
- 樣品調整范圍:0-600克(100克增量)
- 研磨盤速度范圍:5-350 RPM(5轉速增量)
- 觸摸面板控制所有功能。
- ? HP(190瓦)耐用的減速箱電機提供高轉矩
- 數字計時器和轉速表
- 順時針/逆時針研磨盤旋轉
- 易清潔,避免碎片堆積
- 調節閥控制電子冷卻液
- 符合CE標準
- 尺寸:MultiPrep? 8’’: 15“寬x 26"深x 20“高(381×660×508mm)
MultiPrep? 12’’: 22“寬x 26"深x 21“高(560×660×535mm)
19. 重量:MultiPrep? 8’’:125磅(57Kg)
MultiPrep? 12’’:165磅(75Kg)
20. 美國ALLIED公司設計與制造
技術參數:
編號 規格 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
15-2000-GI MultiPrep?系統,8’’,115V | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
15-2000-GI-230 MultiPrep?系統,8’’,230V 包含:#10-1005 8’’鋁研磨盤,防濺環,研磨盤蓋板,#15-1020平行拋光夾具,#15-1030百分表測量儀,附件盒,#50-30076 兩片8’’金剛石研磨片,#50-05518兩個橡膠刮片,#90-150-350五片8’’紅色Final C帶背膠拋光布,#180-25015 16盎司(480ml)0.04微米硅溶膠懸浮液 15-2000-12 MultiPrep?系統,12’’,115V 15-2000-12-230 MultiPrep?系統,12’’,230V 包含:#10-1010 12’’鋁研磨盤,防濺環,研磨盤蓋板,#15-1020平行拋光夾具,#15-1030百分表測量儀,附件盒 附屬配件:
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