——多模態臨界尺寸測量和薄膜計量學
FilmTekTM CD光學臨界尺寸系統是我們解決方案，可用于1x nm設計節點及更高級別的全自動化、高通量CD測量和高級薄膜分析。該系統同時提供已知和*未知結構的實時多層堆疊特性和CD測量。
FilmTek CD利用多模測量技術來滿足與開發和生產中復雜的半導體設計特征相關的挑戰性需求。這項技術能夠測量極小的線寬，在低于10納米的范圍內進行高精度測量。
依賴傳統橢圓偏振儀或反射儀技術的現有計量工具在實時準確解析CD測量的能力方面受到限制，需要在設備研究和開發期間生成繁瑣的庫。FilmTek CD通過獲得多模態測量技術克服了這一限制，該技術甚至為*未知的結構提供了單一解決方案。
FilmTek CD包括具有快速、實時優化功能的專有衍射軟件。實時優化允許用戶以小的設置時間和配方開發輕松測量未知結構，同時避免與庫生成相關的延遲和復雜度。
測量能力：
·厚度、折射率和光盤計量
·未知薄膜的光學常數表征
·超薄膜疊層厚度
·廣泛的關鍵尺寸測量應用，包括金屬柵極凹槽、高k凹槽、側壁角、抗蝕劑高度、硬掩模高度、溝槽和接觸輪廓以及間距行走
Bruker FilmTek CD橢偏儀在爾迪儀器有售，如有需要可聯系上海爾迪儀器科技有限公司！
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