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目錄:愛發科費恩斯(南京)儀器有限公司>>質譜儀>>二次離子質譜儀>> PHI ADEPT 1010動態二次離子質譜儀

動態二次離子質譜儀

  • 動態二次離子質譜儀
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 PHI ADEPT 1010
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 北京市
屬性

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更新時間:2022-03-07 17:24:34瀏覽次數:2524評價

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價格區間 面議 儀器種類 飛行時間
應用領域 化工,電子/電池,綜合
動態二次離子質譜儀(D-SIMS)是使用一次離子束(通常是Cs源)轟擊樣品表面,而產生二次離子,然后用質譜分析儀分析二次離子的質荷比(m/q),從而得知元素在樣品中的深度分布,是分析半導體摻雜和離子注入的強有力的工具。

優勢

ULVAC-PHI 最新設計的四極桿-二次離子質譜儀ADPT1010,在原有的PHI6300和PHI6600的基礎上,改善了離子光學系統,是在一次離子能量低至250eV時,仍保持有效的濺射束流的動態二次離子質譜系統(D-SIMS)。

 

特點

  1. 大束流低能量離子槍設計,極大的提高了深度分辨率

  2. 高性能離子光學系統,改善了二次離子傳輸效率,在提高分析效率的同時又提高了檢測靈敏度

  3. 高精度全自動5軸樣品操控臺

  4. 不同方向進入檢測器的二次離子,均可被高靈敏地收集檢測

 

應用實例分析

采用一次離子源Cs在加速5kV束流為100nA的條件下,分析GaAs中注入的H,C,O元素??梢钥吹紿檢測限值7.1X1016 atm/cm3O檢測限值4.4X1015 atm/cm3,C檢測限值2.0X1015 atm/cm3。

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