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簡介
PHI Quantera II掃描XPS探針是ULVAC-PHI公司最新研發的XPS分析儀器，是在業界獲得非常卓.越成績的Quantum 2000和Quantera SXM的基礎上延申出來的，其革命性技術包括有：一個獨.創的聚焦掃描X射線源，專.利的雙束中和技術，在極低電壓下仍可保持高性能的離子束源以進行XPS的深度分析，一個精密的五軸樣品臺和負責全自動樣品傳送的機械手臂，以及一個*自動化且可支持互聯網遠程控制的儀器操作平臺。Quantera II 增加了這些革命性的技術性能，極大的提高了生產力，再一次提供了最高性能的XPS系統，以滿足您當前和未來的XPS需要。
PHI Quantera II 掃描XPS探針
優點
操作簡單
無論您是在分析一個薄膜樣品、有機聚合物、一個大的塑料鏡片，不銹鋼刀片或是焊錫球等，儀器所有的設置和設定都是*相同的。操作者只需用鼠標在樣品的光學圖像上單擊選擇一個或多個分析區域，打開儀器的雙光束中和系統和自動Z-軸高度調整功能，就可以通過儀器軟件的自動隊列（Add Q）執行所有分析。整個操作流程不需要任何的設定調整，不用因樣品成分不一致而有任何顧慮，甚至也不需要有操作員整天待在儀器旁邊，一切的操作都可以自動的完成。
圖2 - 全自動無人值守，分析無憂的XPS Quantera II
薄膜分析
Quantera II 不僅提供了無機薄膜樣品良好的深度剖面分析性能，而且也可以利用C60離子槍對有機薄膜得出非常*的深度分析結果。
| (a) |  | (b) |  |
圖3 - (a) 以2 keV 氬離子濺射源對一個半導體封裝的錫球表面進行深度分析；
(b) 使用10 keV C60離子源，對50/50 Rapamycin和PLGA的薄膜進行深度分析。
掃描 XPS探針
PHI Quantera II使用了獨.創的聚焦掃描X射線源，使XPS微區分析變得更高效。如圖4所示，X射線源是經由聚焦電子光柵掃描并撞擊在鋁陽極上所產生的，由此產生的聚焦鋁X射線會再透過橢球形狀的單色器反射在樣品表面上。當電子束掃描在鋁陽極上時，所產生的X射線束在樣品上也會作出同步的掃描。X射線束的直徑大小可調范圍為7.5微米以下到400微米以上。
圖4 - (a) PHI 獨.創的聚焦掃描X射線源說明。(b) 使用Quantera II 對MRS-3標樣所生的二次電子像，可見
以Quantera II 可以分析到約直徑為6微米區域的功能。
微區光譜
以下圖5中聚合物表面異物樣品為例。在光學顯微鏡下，透明的聚合物薄膜表面上未發現有任何污染物。而使用二次電子影像時就立即顯示了聚合物表面上污染物的存在。在短短幾分鐘內，Quantera II儀器就可以利用一個直徑為20微米的X射線束對污染物成分進行分析，從而確定為氟碳污染物。
圖5 - Quantera II的污染分析。(a) 二次電子成像。(b) 多點采譜分析。(c) 碳 1s的圖譜。 (d) 元素分布圖（留意分布中右邊較小點的污染不含有氟或碳）。 (e) 對較小的污染做點分析，使用7.5微米的X射線束確定了第二污染物含有鋅的存在。
特點
X射線探針≤5微米的空間分辨率
高靈敏度的靜電檢測光學系統
雙束中和系統
自動化的樣品傳輸處理
儀器可容納最大樣品直徑為100毫米，高度為25毫米
兩個內部樣品平臺暫停區
高性能的離子槍
高速的深度分析
元素態或化學態的XPS成像
自動角分辨分析
PHI MultiPak 數據處理軟件
可選配件
樣品定位系統 (SPS)
熱/冷樣品臺
冷樣品引入裝置
樣品傳輸管和外部測試站
C60離子槍
Ar2500 GCIB離子槍
應用范圍
化學：化學涂料，聚合物，催化劑
材質：金屬，薄膜，納米材料
電子：半導體，磁盤，微電子技術和顯示技術
生物醫學與生物醫學設備
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