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上海旌派儀器有限公司

上海旌派-超聲波清洗機的使用方法

時間:2014-9-9閱讀:1565

    連續振蕩振幅及頻率是固定的可強力清洗。由駐波作用使清洗不均,應增加搖動,達到清洗均勻性。
    加寬調制振幅變化有良好的脫氣效果,對不同物體清洗性好,噪聲大。
    頻率調制(FM振蕩)振蕩頻率實行數千赫的變化能均勻地清洗。清洗效率差,平均輸出功率低。
    同時多頻率多種頻率同時發生形成均衡的聲場,清洗均勻,不易得到強力的超聲波。
    多頻率交替每一種頻率發生復數個頻率清洗均衡,不易得到強力清洗。
    圓錐形輻射清洗用不銹鋼制成的共振體進行超聲波輻射。一般在清洗不充分場合使用可獲得常規超聲波10倍或20倍的強度,性能高。但清洗面小,噪聲大。
清洗條件的選擇設定主要有以下數點:
1·清洗位置:將清洗物置于駐波壓力zui大的位置,可獲得*的清洗效果。但是比駐波大的物體清洗時,易產生清洗不均,這時應將物體在上下數十毫米內加以搖動,這是減少清洗不良的常用方法。
2·由網孔引起的衰減:在清洗小型另件時,多使用網籃方式,網籃網孔的大小不當,會造成超聲波衰減,使清洗力降低,例在28KHZ場合,網籃的網孔直徑需在5mm以上,才可正常清洗。如小的螺釘清洗時,網孔zui小要做到1mm,如果衰減大,使用0.1-0.5mm的薄板網藍,也可得到正常清洗效果。
3·頻率:對于頻率因素涉及的清洗效果,大體可這樣認為,采用頻率低的針對較難清洗的污垢,頻率高的,適合于精密清洗場合。
4·液體溫度:隨著液溫的上升,液中生存的氣泡會遮斷聲波,使超聲波減弱,但是在常規做法上都以提高液溫來增加清洗能力。適合的液溫要針對不同的清洗液和清洗物來確定,一般場合液溫在5060℃比較適當。
清洗工序和清洗裝置:
    清洗工序的設定要根據污染的類型,污染程度,處理批量來決定,譬如,眼鏡片的清洗一般要10個工序。在使用水系清洗劑時,zui基本的工序制定如下:
    超聲波清洗(水系清洗劑)→超聲波清洗(純水、自來水)→脫水(干燥)
    干燥處理對清洗物的清洗性優劣非常重要,常見的干燥方法有熱風干燥、通風干燥、真空干燥、離心脫水干燥、IPA提升干燥等,可按照生產批量、成本、產品精度、被洗物形狀等加以選擇。
    工業用超聲波清洗機多為單槽或雙槽式、自動清洗形式的清洗機也有多槽形式。近年來,半導體行業用的清洗方式大多采用帶950KHZ超聲槽的單枚式“US噴淋”高頻清洗,可得到高性能的清洗結果,“US噴淋”的方式是將載有950KHZ超聲波所形成的水帷幕,用于液晶玻璃、電路芯片的超精密清洗,塵粒子可接近“零”的程度。
    今后不同產品的濕式清洗,如需100%地發揮清洗劑的性能作用,對超聲清洗裝置將會提出更高的要求。

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