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HMDS真空涂膠烘箱的認識及預處理系統操作流程

2020-6-11  閱讀(4462)

                       HMDS真空涂膠烘箱的認識及預處理系統操作流程

隨著時間的推移,客戶定制化需求也越來越強烈,市場對HMDS真空涂膠烘箱的應用需求也比較廣泛了,而這款真空烘箱也主要用于半導體行業,HMDS預處理系統通過對烘箱HMDS預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。 

HMDS預處理系統操作流程:
 1、首先確定烘箱工作溫度;
 2、預處理程序為:打開真空泵抽真空,待腔內真牢度達到某一高真空度后,開始充入氮氣,充到達到某低真空度后,再次進行抽真空、充入氮氣的過程,到達設定的充入氮氣次數后,開始保持一段時間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分;
 3、再次開始抽真空,充入HMDS氣體,在到達設定時間后,停止充入HMDS藥液,進入保持階段,使硅片充分與HMDS反應;
 4、當達到設定的保持時間后,再次開始抽真空。充入氮氣,完成整個作業過程。  



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