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那諾中國(guó)有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第11年

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  • NTE-4000（M）熱蒸發(fā)系統(tǒng)

    NTE-4000（M）熱蒸發(fā)系統(tǒng)：NTE-4000是PC控制的立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 9:32:32 對(duì)比
    NTE-4000熱蒸鍍進(jìn)口熱蒸鍍系統(tǒng)進(jìn)口熱蒸發(fā)臺(tái)進(jìn)口熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
  • 全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)

    NTE-3500（A）全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)：全自動(dòng)立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝特點(diǎn)。具有...

    型號(hào)： NTE-3500（... 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 9:30:27 對(duì)比
    NTE-3500全自動(dòng)熱蒸鍍進(jìn)口全自動(dòng)熱蒸鍍系統(tǒng)全自動(dòng)熱蒸發(fā)臺(tái)全自動(dòng)熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
  • NTE-3500（M）熱蒸發(fā)系統(tǒng)

    NTE-3500（M）熱蒸發(fā)系統(tǒng)：NTE-3500是PC控制的緊湊型立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 9:27:57 對(duì)比
    NTE-3500熱蒸鍍進(jìn)口熱蒸鍍系統(tǒng)熱蒸發(fā)臺(tái)熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
  • NTE-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)

    NTE-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)：NTE-3000是PC控制的臺(tái)式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 9:25:56 對(duì)比
    NTE-3000熱蒸鍍進(jìn)口熱蒸鍍系統(tǒng)熱蒸發(fā)臺(tái)熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
  • 全自動(dòng)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000（ICPA）全自動(dòng)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可達(dá)6" 基片...

    型號(hào)： NPE-4000（... 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 9:03:44 對(duì)比
    進(jìn)口全自動(dòng)ICPECVDICP PECVD
  • ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000（ICPM）ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片...

    型號(hào)： NPE-4000（... 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 9:01:22 對(duì)比
    進(jìn)口ICPECVDICPPECVD
  • 全自動(dòng)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000（A）全自動(dòng)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋...

    型號(hào)： NPE-4000（... 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:59:11 對(duì)比
    進(jìn)口PECVD進(jìn)口全自動(dòng)PECVD等離子化學(xué)氣相沉
  • NPE-4000（M）PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000（M）PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:57:07 對(duì)比
    進(jìn)口PECVD進(jìn)口等離子體PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉
  • NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電極或...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:55:15 對(duì)比
    進(jìn)口PECVD進(jìn)口等離子體PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉
  • NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電極或...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:53:32 對(duì)比
    進(jìn)口PECVD臺(tái)式PECVD進(jìn)口等離子體PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉
  • NSC-4000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-4000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：立式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:51:32 對(duì)比
    磁控濺射鍍膜系統(tǒng)進(jìn)口全自動(dòng)磁控濺射臺(tái)全自動(dòng)磁控濺射鍍膜儀全自動(dòng)磁控濺射鍍膜機(jī)
  • 磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)到到8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)1...

    型號(hào)： NSC-4000（... 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:49:27 對(duì)比
    Sputter System進(jìn)口磁控濺射系統(tǒng)磁控濺射臺(tái)進(jìn)口真空鍍膜儀
  • NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：立式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:47:43 對(duì)比
    NSC-3500磁控濺射系統(tǒng)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)進(jìn)口全自動(dòng)濺射臺(tái)全自動(dòng)濺射鍍膜機(jī)
  • NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:41:18 對(duì)比
    Sputter System進(jìn)口磁控濺射系統(tǒng)磁控濺射臺(tái)進(jìn)口真空鍍膜儀
  • NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 T...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:39:44 對(duì)比
    Sputter System進(jìn)口磁控濺射系統(tǒng)進(jìn)口磁控濺射臺(tái)真空濺射臺(tái)價(jià)格
  • NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)

    NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)：*進(jìn)的全自動(dòng)濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱（可加熱至700度）功能；8“旋轉(zhuǎn)樣平臺(tái),可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 7:32:28 對(duì)比
    濺射磁控濺射鍍膜機(jī)價(jià)格鍍膜機(jī)
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