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當前位置：深圳維爾克斯光電有限公司>>光學鏡片及配件>>波片>> OPSQSP-25.4C05-10-5西格瑪光機低散亂基片
| 應用領域 | 能源,電子/電池,綜合 | 材質 | 合成石英，紫外用CaF2 MgF2 |
|---|---|---|---|
| 表面粗糙度 | ＜0.2nm（Ra） |
超光滑表面(Ra＜0.2nm)，西格瑪光機低散亂平行平面基板/超光滑基板
日本西格瑪光機（日本SIGMAKOKI）生產的低散亂平行平面基板是一種專為減少基板散射影響而設計的光學元件。這類低散亂平面基板和楔形基板(OPSQSP/OPCFSP/OPMFSP/WSSQSP/WSCFSP/WSMFSP)通過特殊的拋光工藝，表面粗糙度可以控制在0.2nm（Ra）以下，因此還可稱為高平整度基板，西格瑪光機低散亂基片，OptoSigma超光滑基片和低散亂鏡片。這種精細的加工使得超光滑基板適合用于高能激光應用中的反射鏡，以及X射線應用中的反射鏡基板。
日本西格瑪光機低散亂基板圖示
低散亂基片/高平整度基板共同指標 | |
材質 | 合成石英 紫外用CaF2 MgF2 |
表面粗糙度 | ＜0.2nm（Ra） |
有效直徑 | 外徑的90％ |
OptoSigma西格瑪光機低散亂基片/低散亂鏡片的特點：
- 楔形基板用于希望清除分光鏡等反面反射的影響時。
- CaF2（氟化鈣），MgF2（氟化鎂）在紫外光譜區和紅外光譜區具有較高的透過性。
- 低散亂平行平面基板的表面粗糙度（微觀的凹凸）和面型精度（面整體的平坦程度）都進行了高精度加工，基板接近理想平面。
日本SIGMAKOKI西格瑪低散射基板/低散亂基片相關信息：在楔形基板最厚的地方印有指向正面的箭頭符號。
日本SIGMAKOKI西格瑪光機低散亂基板的注意事項：
- 西格瑪低散射基板/低散亂基片的兩面都沒有鍍膜，玻璃表面存在2.5％?4％的反射。
- 透過楔形基板使用時，光束會有0.5°左右的傾斜。
- CaF2表面很容易受損，不能用紙擦拭，請使用清潔用壓縮氣罐去除灰塵。
- CaF2，MgF2長時間放置在高濕度的環境下時，表面會變得粗糙，不使用時，請保管在自動干燥箱等濕度較低的環境中。
日本西格瑪光機低散亂基板表面粗糙度Ra：
表示表面粗糙度的定義有JIS B0601規定，其中被頻繁使用的表面粗糙度的定義為Ra。Ra經常以?（埃：0.1nm）單位來表示。由測量值求出平均值，從測量值中減掉平均值得到絕對值，這個絕對值的平均值為Ra，雖與均方根（RMS）近似，但是比RMS稍微小的值。
超光滑基片表面粗糙度測量裝置和測量數據（例子）：
低散亂平行平面基板/超光滑基片的功能說明圖：
低散亂平行平面基板/超光滑基片的外形圖：
Optosigma低散亂平面基板的規格參數表：
平行平面 | ||||||
型號 | 外徑φD(mm) | 厚度t(mm) | 材質 | 面型精度 | 平行度(″) | 表面質量 |
OPSQSP-25.4C05-10-5 | φ25.4 | 5 | 合成石英 | λ/10 | ＜5 | 10－5 |
OPSQSP-30C03-10-5 | φ30 | 3 | 合成石英 | λ/10 | ＜5 | 10－5 |
OPSQSP-30C05-10-5 | φ30 | 5 | 合成石英 | λ/10 | ＜5 | 10－5 |
OPSQSP-50C05-10-5 | φ50 | 5 | 合成石英 | λ/10 | ＜5 | 10－5 |
OPCFSP-25.4C05-10-5 | φ25.4 | 5 | CaF2 | λ/10 | ＜5 | 20－10 |
OPCFSP-30C05-10-5 | φ30 | 5 | CaF2 | λ/10 | ＜5 | 20－10 |
OPMFSP-25.4C05-10-5 | φ25.4 | 5 | MgF2 | λ/10 | ＜5 | 20－10 |
OPMFSP-30C05-10-5 | φ30 | 5 | MgF2 | λ/10 | ＜5 | 20－10 |
平行平面 | ||||||
型號 | 外徑φD(mm) | 厚度t(mm) | 材質 | 面型精度 | 平行度(″) | 表面質量 |
WSSQSP-30C05-10-1 | φ30 | 5 | 合成石英 | λ/10 | 1°±5′ | 10－5 |
WSSQSP-50C08-10-1 | φ50 | 8 | 合成石英 | λ/10 | 1°±5′ | 10－5 |
WSCFSP-30C05-10-1 | φ30 | 5 | CaF2 | λ/10 | 1°±5′ | 20－10 |
WSMFSP-30C05-10-1 | φ30 | 5 | MgF2 | λ/10 | 1°±5′ | 20－10 |
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