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PICOSUN R-200 Advanced ALD系統適用于數十種應用的研發，例如IC組件，MEMS器件，顯示器，LED，激光和3D對象，例如透鏡，光學器件，珠寶，硬幣和醫療植入物。

PICOSUN原子層沉積系統ALD R-200 Pro

（PICOSUN™ ALD R-200 S Pro）

原子層沉積系統（ ALD P-200）

名稱：原子層沉積系統產地：芬蘭

Picosun簡介

Picosun是yi家公司，Picosun的總部位于芬蘭的Espoo，其生產設施位于芬蘭的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD設備專為高產量和高產量而設計，并且不斷發展以提高效率。Picosun適應性強其客戶包括大的電子制造商，小型的創新型挑戰者以及的大學。 Picosun的組織機構和種類繁多的ALD解決方案都可以滿足每個客戶的需求。PICOSUN®研發工具具有*的內置可擴展性，可確保將研究結果平穩過渡到大批量工業制造中，而不會出現技術差距。Picosun的熱情在于創新。當您想與設備制造商共同創建定制的ALD解決方案，從而引ling行業發展時，Picosun是您的合作伙伴。

PICOSUN™ P系列量產ALD系統定義了高產量ALD的新時代。我們全自動化、真空集群與產線兼容的P系列ALD確保了大的產出效率，并且具有的工藝純度和薄膜均勻性，甚至能*具有嚴格要求的半導體行業標準。PICOSUN™ P系列ALD高效緊湊的設計節約了昂貴的場地成本，系統的易維護性減少了停工期。對于系統的維護、工藝故障的排除，我們為客戶提供專業的售后服務Picosupport™。根據用戶的需求，確保每時每（24/7/365）快速提供全面的解決方案。在購買之前，我們提供做樣服務，確保系統具有好的性能，*您的需求。

技術指標

襯底尺寸和類型	50 – 200 mm /單片
	156 mm x 156 mm 太陽能硅片
	150 mm x 150 mm 顯示面板
工藝溫度	50 - 500 °C , 可選更高溫度
基片傳送選件	氣動升降（手動裝載）
	半自動裝載，用PICOPLATFORM™200集群系統實現
	25片晶圓盒對盒式全自動裝載（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系統實現
標準	SEMI S2 認證（認證中）
前驅體	液態, 固態, 氣態, 臭氧源, 等離子體（多4路氣體）：
	前驅源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務
	6根獨立源管線，多加載12個前驅體源（加上Plasma管路，共7根獨立源管線）
重量	790 kg
尺寸 (W x H x D)	160 cm x 80 cm x 240 cm
可選件	集群工具, PICOFLOW™ 擴散增強器, 集成橢偏儀, QCM, RGA, N2發生器，尾氣處理器，定制設計，與工廠軟件連接服務。
驗收標準	標準設備驗收標準為 Al2O3 工藝，
	其他工藝可具體協商：其他工藝、應用具體驗收標準如：
	--不均勻性
	--顆粒物含量
	--重金屬污染
	--電學性能

應用領域

PICOSUN™ 200mm 生產線上的產品是200mm以下晶圓的自動化、高產量的工業ALD加工設備。包括PICOSUN™ P系列Pro ALD設備。該工具可以獨立工作，也可以集成到PICOPLATFORM™200真空集群系統以達到更高的產量和自動化水平。為了節約昂貴的設施空間，所有PICOSUN™的ALD系統有著緊湊，高效的設計。集成的專業機柜，裝載著前驅體和電子元件，保證了快速簡便的維護和短的停機時間。PICOSUN™ P系列Pro工具保證了大產能以及節約成本的情況下得到的ALD工藝質量，并履行嚴格的現代半導體產業的生產力和安全要求。

原子層沉積系統（ ALD P-200）

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