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EVG500系列鍵合機：EVG501

• 簡介

EVG公司成立于1980年，公司總部和制造廠位于奧地利，在美國、日本和中國臺灣設有分公司，并在其他各地設有銷售代理及售后服務部，產品和服務遍及世界各地。

EVG公司是一家致力于半導體制造設備的供應商，其豐富的產品系列包括：涂膠和噴膠/顯影機/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對準系統、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統、基片清洗機、基片檢測系統、SOI 基片鍵合系統、基片臨時鍵合/分離系統、納米壓印系統。

目前已有數千臺設備安裝在世界各地，被廣泛地應用于MEMS微機電系統/微流體器件，SOI基片制造，3D封裝，納米壓印，化合物半導體器件和功率器件等   域。

EVG公司是世界上頂jian的基片鍵合設備制造商，其鍵合工藝被認定為MEMS   域的標準工藝。EVG鍵合系統可實現陽極鍵合、熱壓鍵合、中間層粘著鍵合、 玻璃漿料鍵合、硅-硅直接鍵合、共晶鍵合及SOI鍵合等所有鍵合工藝。EVG鍵合設備型號齊全，從手動裝片系統到全自動片盒送片多工藝室系統，可以滿足不同客戶的應用要求。無論手動/半自動裝片系統， 鍵合工藝全部自動完成；而且，*的基片夾具及鍵合室結構設計，可實現高精度的圓片鍵合；此外上/下極板為獨立分別加熱控制，   大加熱溫度可達650度。

EVG501是一款主要用于研發的高度靈活的鍵合系統，既可以處理很小的碎片也可以處理200mm的晶圓。可以支持各種形式的鍵合，如陽極鍵合、玻璃焊料鍵合、共晶、擴散、融合、焊接和粘結鍵合；也可以支持其他熱處理過程如氧化物移除和高溫烘烤等。EVG501在夾具更換時非常方便，更換時間一般不超過5分鐘，大大減少了客戶的操作時間和培訓費用，因此EVG501是一款非常適合研發和小量生產的設備。

二、應用范圍

主要應用于MEMS制造、微流體芯片、化合物半導體的薄片處理、晶圓級先進封裝以及3D互聯、TSV工藝等。

三、主要特點

1.    大化降低客戶總擁有成本（TCO）
2.    高鍵合溫度450度，壓力10KN
3. 的硅片低壓契型補償系統以提高良率
4. 溫度均勻性： <+/- 1% ；壓力均勻性：<+/- 5%
5. 工藝菜單與其他鍵合系統通用
6. 高真空度鍵合腔室 (可低至 10^-5 mbar，使用分子泵)
7. 開放式腔室設計便于快速轉換和維護
8. 基于Windows 的控制軟件和操作界面
9.    小化占地占地面積--- 200 mm鍵合系統占地 0.88 m²

四、技術參數

納米壓印設備之紫外納米壓印：EVG600系列

• 簡介

EVG公司成立于1980年，公司總部和制造廠位于奧地利，在美國、日本和中國臺灣設有分公司，并在其他各地設有銷售代理及售后服務部，產品和服務遍及世界各地。

EVG公司是一家致力于半導體制造設備的供應商，其豐富的產品系列包括：涂膠和噴膠/顯影機/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對準系統、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統、基片清洗機、基片檢測系統、SOI 基片鍵合系統、基片臨時鍵合/分離系統、納米壓印系統。

目前已有數千臺設備安裝在世界各地，被廣泛地應用于MEMS微機電系統/微流體器件，SOI基片制造，3D封裝，納米壓印，化合物半導體器件和功率器件等    域。

EVG是世界上為數不多的可以商業化納米壓印設備的著ming公司，可為客戶提供完整的納米壓印方案，包括熱壓印、紫外壓印、微接觸印刷。EVG公司以其專li的極其優異的對準技術和世界    先的熱壓技術為納米壓印的成功實施打下了堅實的基礎。

EVG620紫外納米壓印用于從印章到襯底的紫外圖形轉移。EVG620自動納米壓印系統允許襯底和印章的尺寸從很小的芯片到150mm直徑的圓片范圍。用于納米技術應用的配置包括印章機械釋放、程序控制高或低的接觸壓力。EVG*的吸盤設計支持軟印章和硬印章壓印，可以保證大面積納米壓印的均勻壓力，從而保證獲得很高的良率。

二、應用范圍

納米壓印技術主要應用于如下方面：

LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學；芯片實驗室；抗反射層； 納米壓印光柵； 蓮花效應；光子帶隙；光學及通訊：光晶體，激光器件；生物技術解決方案：醫藥分析，血液分析，細胞生長。

三、主要特點

1. 適用于紫外納米壓印和微接觸印刷；
2. 紫外光曝光；
3. 配備的紫外納米壓印工具；
4. 適于軟或硬印章壓印；
5. 適用襯底：Si，玻璃，化合物半導體；