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520HE 納米壓印-EVG 520HE 熱壓印系統
  • 520HE 納米壓印-EVG 520HE   熱壓印系統
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更新時間:2025-05-02 21:00:08

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經通用生產驗證的熱壓花系統,可滿足高要求

EVG®520 HE  Hot Embossing System

EVG®520HE   壓印系統

 

經通用生產驗證的熱壓花系統,可滿足高要求

 

技術數據

EVG520 HE半自動熱壓花系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。 EVG的這種經過生產驗證的系統可以接受直徑大為200 mm的基板,并且與標準的半導體制造技術兼容。熱壓花系統配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,并管理適用于熱壓花的整個聚合物范圍。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項,提供了許多用于高質量圖案轉印和納米分辨率的工藝。

 

 

特征

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓花和納米壓印應用

自動化壓花工藝

EVG專有的獨立對準工藝,用于光學對準的壓印和壓印

氣動壓花選項

軟件控制的流程執行

 

 

 

 

 

 

 

 

技術數據

加熱器尺寸150毫米200毫米

大基板尺寸150毫米200毫米

小基板尺寸單芯片100毫米

 

大接觸力10、20、60、100 kN

 

溫度:標準:350°C;可選:550°C

粘合卡盤系統/對準系統150毫米加熱器:EVG®610,EVG®620,EVG®6200

200毫米加熱器:EVG®6200,MBA300,SmartView®NT

真空:標準:0.1毫巴;      可選:0.00001 mbar


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