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RAITH- EBPG5200-高性能電子束曝光機EBPG5200
  • RAITH- EBPG5200-高性能電子束曝光機EBPG5200
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貨物所在地:北京北京市

地: 德國

更新時間:2025-04-09 21:00:07

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EBPG5200是一款高性能的納米光刻系統,擁有完整200mm尺寸的光刻能力,這款電子束光刻系統代表了不斷進化的高度成功和廣為市場接受的EBPG系列產品。

專業電子束曝光系統

高性能電子束曝光機EBPG5200

自動化高速度的高精度電子束曝光技術

EBPG5200是一款高性能的納米光刻系統,擁有完整200mm尺寸的光刻能力,這款電子束光刻系統代表了不斷進化的高度成功和廣為市場接受的EBPG系列產品。它提供了不同用途的解決方案,包括納米尺度的電子束直寫和大學研究所,以及商業化的生產力中心研發用的掩膜版制作。

 

 

同時,系列產品還包括新的EBPG5150電子束直寫系統,使用了相同的平臺設計,是一款155mm*155mm尺寸平臺的系統。

Improved Specifications

  • Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
  • Extreme beam current up to 350 nA
  • Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm

 

  • 高束流密度,熱場發射電子槍可以在2050100kV之間切換
  • 200mm的平臺可以曝光完整8英寸的硅片或者7英寸的掩膜版
  • 小曝光特征尺寸小于8nm
  • 高速度曝光,可采用50100MHz的圖形發生器
  • 在所有KVs加速電壓下,可連續改變的寫場大小,大可以到1mm
  • GUI人機交互界面友好,簡潔易用,適用于多用戶環境
  • 多項靈活可選擇的配置,可以適用于不同應用的需求

模塊化的系統架構

模塊化的系統架構設計,可以讓用戶根據需要選擇配置,可以在將來技術升級的時候,保護用戶的初始投資,提供不同類型的升級策略。

電子束曝光系統EBPG5200 應用

  • 圓光柵諧振腔

 

  • 6nm分辨率(100KVHSQ

 

  • 垂直諧振隧道晶體管
  • 化合物半導體應用

 

  • 5nm密集線條

電子束曝光系統EBPG5200 產品詳情

主要應用:

  • 100KV高加速電壓可用于曝光高深寬比納米結構
  • 高速電子束直寫
  • 批量生產, 如化合物半導體器件
  • 防偽標識

電子光學柱技術:

  • EBPG
  • 電子束
  • 100 kV

樣品臺:

  • 覆蓋完整8英寸硅片大小
  • Z軸垂直高度大范圍可調(可選)
  • 10工位自動上料

 

 

 

 

 

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