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EBPG5200是一款高性能的納米光刻系統,擁有完整200mm尺寸的光刻能力,這款電子束光刻系統代表了不斷進化的高度成功和廣為市場接受的EBPG系列產品。它提供了不同用途的解決方案,包括納米尺度的電子束直寫和大學研究所,以及商業化的生產力中心研發用的掩膜版制作。
同時,系列產品還包括新的EBPG5150電子束直寫系統,使用了相同的平臺設計,是一款155mm*155mm尺寸平臺的系統。
模塊化的系統架構設計,可以讓用戶根據需要選擇配置,可以在將來技術升級的時候,保護用戶的初始投資,提供不同類型的升級策略。
主要應用:
| 電子光學柱技術:
| 樣品臺:
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