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Centrotherm Oxidator 150-Centrotherm 高溫氧化系統-Oxidator 150
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貨物所在地:北京北京市

地: 德國

更新時間:2025-02-07 21:00:07

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Centrotherm公司是半導體設備供應商,尤其在高溫設備領域。Centrotherm Oxidator 150 經過專業的研發, 能夠滿足 SiC 圓片的高溫氧化工藝; 同時亦可用于常規的硅圓片的氧化。


Centrotherm 高溫氧化系統-Oxidator 150

一、產品簡介

德國Centrotherm公司是國際主流的半導體設備供應商,尤其在高溫設備領域。Centrotherm Oxidator 150 經過專業的研發, 能夠滿足 SiC 圓片的高溫氧化工藝; 同時亦可用于常規的硅圓片的氧化。Centrotherm Oxidator 150 的反應腔具有性能高、占地小和生產成本低等特點,為客戶提供最高的工藝靈活度, 同時能夠保證有毒氣體的安全使用。

設備特點:

爐管和加熱器均處于真空密閉反應腔內,上下料腔室可用Ar N2 進行吹掃,可以保證有毒氣體(如 NON2OH2NO2 等) 的安全使用。

氧化工藝使用 N2O 氣氛,可以改善 SiO2/SiC 接觸表面以獲得更高的通道遷移率,同時可提高SiC表面氧化物的穩定性和壽命。

提供帶有氫氧合成系統的濕氧工藝。

高達 1350 ℃ 的溫度和其他支持功能為 SiC 氧化工藝和低界面陷阱密度, 高通道移動率的氧化層研制提供可能。

二、適用工藝

高溫SiC或Si氧化

氧化后退火(氫氣環境)

三、產品特性

性能

圓片尺寸: 2″、3″、4″、6″

工藝溫度: 900 ℃ ~ 1350 ℃



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