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EVG 501 Bonding-EVG 501 晶圓鍵合系統(tǒng)
  • EVG 501  Bonding-EVG 501 晶圓鍵合系統(tǒng)
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更新時間:2025-02-07 21:00:07

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適用于學(xué)術(shù)界和工業(yè)研究的多功能手動晶圓鍵合系統(tǒng)

EVG 501 Wafer Bonding System

EVG 501 晶圓鍵合系統(tǒng)

適用于學(xué)術(shù)界和工業(yè)研究的多功能手動晶圓鍵合系統(tǒng)

EVG501是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng),可以處理從單個芯片到150 mm200 mm鍵合室為200 mm)的基板尺寸。該工具支持所有常見的晶圓鍵合工藝,例如陽極,玻璃粉,焊料,共晶,瞬態(tài)液相和直接法。易于使用的鍵合腔室和工具設(shè)計允許對不同的晶圓尺寸和工藝進行快速便捷的重新工具化,轉(zhuǎn)換時間不到5分鐘。這種多功能性是大學(xué),研發(fā)機構(gòu)或小批量生產(chǎn)的理想選擇。 EVG大批量制造工具(例如EVG GEMINI)上的鍵合室設(shè)計相同,鍵合配方易于轉(zhuǎn)移,可輕松擴大生產(chǎn)規(guī)模。

特征

*的壓力和溫度均勻性

兼容EVG機械和光學(xué)對準器

靈活的研究設(shè)計和配置

從單芯片到晶圓

各種工藝(共晶,焊料,TLP,直接粘合)

可選的渦輪泵(<1E-5mbar

可升級用于陽極鍵合

開室設(shè)計,易于轉(zhuǎn)換和維護

兼容試生產(chǎn)

開室設(shè)計,易于轉(zhuǎn)換和維護

200毫米粘合系統(tǒng)的zui小占地面積:0.8平方米

配方與EVG的大批量生產(chǎn)粘合系統(tǒng)*兼容

技術(shù)數(shù)據(jù)

zui大接觸力:20千牛

加熱器尺寸150毫米200毫米                zui小基板尺寸單芯片100毫米

真空:標準:0.1毫巴

可選:1E-5 mbar                               zui 溫度450°攝氏度

單芯片加工:是;                            夾盤系統(tǒng)/對準系統(tǒng)



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