電子級氫氟酸是半導體、集成電路、液晶顯示器（LCD）、太陽能電池等微電子行業中的關鍵化學品。它是一種超高純度的氫氟酸水溶液，用于：

清洗與刻蝕：清除晶圓表面的氧化物、金屬雜質、有機污染物，并刻蝕硅、二氧化硅、氮化硅等材料。

拋光：改善晶圓表面平整度，提高器件性能。

調整摻雜：在一些工藝中用于調整硅片的摻雜濃度。

電子級氫氟酸的濃度須準確控制，偏離目標值會帶來嚴重問題：

濃度過高會導致過度刻蝕，造成器件尺寸偏差甚至損壞，還會腐蝕設備管道和容器，帶來安全隱患和經濟損失，并增加高濃度HF廢液的處理難度，導致成本高昂。而濃度過低則會導致清洗效果差，無法有效去除污染物，影響器件性能，同時刻蝕速率慢，延長工藝時間，降低生產效率，導致產品質量下降，甚至報廢，增加產品報廢率。

傳統的人工滴定、化學分析等檢測方法存在以下不足：

耗時費力：需要人工取樣、化驗，過程繁瑣。

滯后性：無法實時監測濃度變化，容易造成偏差。

人為誤差：存在操作誤差，影響檢測精度。

安全性問題：人工接觸HF有安全風險。

產品優勢

電子級氫氟酸濃度計采用分體式設計，有濃度傳感器和多功能主機組成，通過傳感器測量，多功能主機顯示及控制。

傳感器采用超純PFA/PTFE流通池結構結合大面積藍寶石光學棱鏡，通過長期技術積累和攻關研發，解決了半導體行業濕電子化學品濃度在線測控類產品的“卡脖子"問題。

電子級氫氟酸濃度計具有高精度、SEMIG5級、耐高溫、長壽命光源、光強自調節、恒溫探測器等特點。儀表無需樣品預處理，無需試劑耗材，秒量級的快速測量，讓企業實時掌握生產動態。在檢測過程中無機械動作，確保長期使用穩定。儀表采用長達10萬小時的超長壽命光源，檢測過程無機械動作，確保長期穩定運行，降低維護成本。全平面結構的檢測棱鏡，避免藏污納垢。出廠校準和自動溫度補償，讓您直接投入使用，無需繁瑣設置。還支持上位機通訊，4-20mA&RS485信號輸出、報警及控制等開關量信號輸出，支持數據建模功能，可定制數據模型。

應用場景

HF配液系統：實時監測配液濃度，確保配液精度。

清洗槽：實時監測清洗液濃度，控制清洗效果。

刻蝕槽：實時監測刻蝕液濃度，控制刻蝕速率。

廢液處理系統：監測廢液濃度，優化處理工藝。

HF儲罐：監測儲罐內HF濃度，確保質量。

技術參數