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荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源

產品介紹：

ISTEQ公司開發了一種基于激光產生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有ji高的亮度和ji高的穩定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒，因此持續運行時間極長。

ISTEQ公司為LPP光源開發的燃料是針對特定應用的光譜范圍而設計的。然而，對于掩模檢查的應用，公司開發了一種高頻錫旋轉靶，已在全球范圍內獲得專li。

產品特點：

·高亮度以及出色的穩定性

·最少的碎片

·ji高的正常運行時間

·高占空比和交鑰匙操作

·用戶友好的自動化協議，確保系統平穩運行，沒有中斷的風險。

產品應用：

·掩模和表面檢查：

·圖案掩模檢測 (PMI)

·區域掩模檢測 (AIMS)

·掩模空白檢測 (MBI)

·EUV 掃描儀檢

·材料科學

·晶圓檢查

型號參數：