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產品簡介
帕克Park NX20，這款精密的大型樣品原子力顯微鏡，憑借著出色的數據準確性，在半導體和超平樣品行
業中大受贊揚。
業中大受贊揚。
詳細介紹
缺陷分析的理想選擇
作為一款缺陷形貌分析的精密測量儀器，其主要目的是對樣品進行缺陷檢測。而儀器所提供的數據不能允許任何錯誤的存在。Park NX20，這款精密的大型樣品原子力顯微鏡，憑借著出色的數據準確性，在半導體和超平樣品行業中大受贊揚。
強大全面的分析功能
可快速幫助客戶找到產品失效的原因，并幫助客戶制定出更多具有創意的解決方案。的精密度為您帶來高分辨率數據，讓您能夠更加專注于工作。與此同時，真正非接觸掃描模式讓探針*更耐用，無需為頻繁更換探針而耗費大量的時間和金錢。
凝聚著創新的AFM技術
1. 100 μm x 100 μm掃描范圍的XY平板掃描器
XY平板掃描器，采用壓電堆棧設計，減少傳統掃描過程中XY的正交影響，具有高速的響應頻率，實現精確的樣品納米級掃描。
即便是*次接觸原子顯微鏡的工程師也易于操作
ParkNX20擁有業界便捷的設計和自動界面，讓你在使用時無需花費大量的時間和精力，也不用為此而時時不停的指導初學者。借助這一系列特點，您可以更加專注于解決更為重大的問題，并為客戶提供及時且富有洞察力的失效分析報告。
Park NX20 可以滿足科研工作者需要的多種掃描模式，并能滿足您的所有研究需求。
表面粗糙度測量
真正非接觸模式
D輕敲模式
電學性能測量
導電AFM (ULCA和VECA)
靜電力顯微鏡(EFM)
壓電力顯微鏡（PFM）
掃描電容顯微鏡(SCM)
掃描開爾文探針顯微鏡 (SKPM)
掃描電阻顯微鏡(SSRM)
掃描隧道顯微鏡(STM)
光電流顯微鏡(Tr-PCM)
機械性能測量
力調制顯微鏡(FMM)
力-距離(F-D) 曲線
力譜成像
側向力顯微鏡（LFM）
納米壓痕
納米刻蝕
相位成像
材料性能研究
SCM快速掃描成像
PinPoint 導電原子力成像
磁力顯微鏡（MFM）
高級選項
定制您*的原子力顯微鏡
自動數據收集和分析，適合工業客戶產線測量
Park 的自動化控制軟件，根據你的預設程序，自動進行AFM測量。它可以準確地收集數據，
執行模式識別，并使用它的尋邊器和光學模塊進行分析，不需要人工介入，為您節省測量時間。
傾斜樣品傾角夾具，可以幫助您進行樣品側壁成像
NX20 的創新架構讓您可以檢測樣品的側壁和表面，并測量它們的角度。這項設計賦予了這個單位更
多的靈活性，使你可以做更多的創新研究和獲得更深的見解。
傾斜角度:10°、15°和 20°
樣品尺寸:20 mm x 20 mm
樣本厚度:2 mm
嵌入主動溫度控制的隔音罩可以讓您采取更精確的測量
創新設計使系統快速達到其溫度平衡。
10分鐘內使測試環境溫差小于0.05℃。
集成式主動減震臺，優于老式的氣動平臺，減震效果更佳。
閉環控制電動位移臺
XY載臺馬達位移機械分辨率為1 μm，重復率為2 μm。
Z向馬達位移分辨率為0.1 μm，重復率為1 μm。
樣品盤
芯片樣品盤
真空吸附盤
Max晶圓盤200mm
探針夾具
固定掃描探針
可進行電學性能測試
針尖電壓: -10 V ~ +10 V
XY 掃描器
20 μm x 20 μm
50 μm x 50 μm
100 μm x 100 μm
Z 掃描器
15 μm
30 μm
精確的溫度控制
加熱和冷卻臺(0 ~ 180oC)
250oC加熱臺
600oC加熱臺
Park NX20 技術參數
掃描器
XY掃描器
閉環控制XY平板掃描器
掃描范圍:
100 μm × 100 μm
50 μm × 50 μm
25 μm × 25 μm
20位位置控制和24位位置傳感器
Z掃描器
導向強力Z掃描器
掃描范圍：15 μm-30 μm
20位位置控制和24位位置傳感器
視場&CCD
同軸光源設計
10倍光學物鏡和數碼放大
光學物鏡視場: 840 μm × 630 μm
CCD:5MP
光學物鏡
10× (0.21 NA) 超長工作距離鏡頭的物鏡
20× (0.42 NA) 高分辨率，長工作距離鏡頭的物鏡
軟件
系統控制和數據采集軟件
智能掃描模式
通過外部程序控制腳本級別（選配）
AFM數據分析軟件
電性能信號處理
ADC: 18 通道
ADC通道 (64 MSPS)
24-bit ADC 的 X, Y 和 Z 掃描器位置傳感器
DAC:12通道
ADC通道 (64 MSPS)
20-bit DAC的 X, Y 和 Z 掃描器定位
大數據量：4096 x 4096像素
集成功能
3通道數字鎖相放大器
探針彈性系數校準(熱方法)
數據Q控制
選項/模式
成像模式
真正非接觸模式
接觸模式
側向摩擦力顯微術 （LFM)
相位成像
輕敲模式
電學特性測量
掃描電容顯微鏡(SCM)
導電原子力顯微鏡
靜電力顯微鏡 （EFM)
壓電力顯微鏡 （PFM)
掃描開爾文探針顯微鏡 （SKPM/KPM)
壓電力顯微鏡PFM
一般特性
磁力顯微鏡 （MFM)
掃描熱感顯微鏡(SThM)
力－距離（F-D)曲線
掃描隧道顯微鏡(STM)
力調制顯微鏡(FMM)
納米壓痕
納米刻蝕
納米操縱
選項
樣品基座
據有溫控性能的隔音罩
液體探手
液池
溫控臺
外部偏置模塊
信號獲取模塊
運動位移平臺
XY行程范圍： 150 mm (200 mm選配）
Z行程范圍： 25 mm
XY載臺馬達位移機械分辨率為1 μm，重復率為2 μm。
Z向馬達位移分辨率為0.1 μm，重復率為1 μm。
樣品基座
樣品Max尺寸： 150 mm (200 mm 選配）
真空樣品吸附
外部信號訪問
20個嵌入式輸入/輸出端口
5個TTL輸出： EOF, EOL, EOP, Modulation,and AC bias