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NanoSystem NV-3200非接觸式3D光學(xué)輪廓儀
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  • NanoSystem NV-3200非接觸式3D光學(xué)輪廓儀

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貨物所在地: 浙江杭州市
產(chǎn)地: 韓國
更新時間: 2025-07-24 21:00:08
期: 2025年7月24日--2026年1月24日
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產(chǎn)品簡介

NanoSystem NV-3200非接觸式3D光學(xué)輪廓儀為LCD、IC Package、Substrate、Build-up PCB、MEMS,Engineering Surfaces等領(lǐng)域提供納米級別精度的測量.

詳細(xì)介紹

NanoSystem NV-3200非接觸式3D光學(xué)輪廓儀為LCD、IC Package、Substrate、Build-up PCB、MEMS,Engineering Surfaces等領(lǐng)域提供納米級別精度的測量.

包括:非接觸3D形貌測量,更廣的測量范圍(5mm可選),自動聚焦功能(可選),拼接和線路縱斷面等功能。

 

NanoSystem NV-3200非接觸式3D光學(xué)輪廓儀技術(shù)參數(shù)

干涉物鏡:5物鏡可選(程控)

掃描范圍:0-180um(270um,5mm可選)

垂直分辨率:WSI:﹤0.5nm ,PSI :﹤0.1nm

橫向分辨率:0.2-4um(取決于物鏡和FOV)

傾斜度:±6°

工作平臺:NV-P2020  200X200mm(程控)    

NV-P4050  400X500mm(程控)

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