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產品簡介
Nikalyte NL FLEX物理氣相沉積系統是一款超多功能的PVD（物理氣相沉積）系統，能夠生成納米顆粒和薄膜，非常適合工業和學術研究。NL-FLEX可以容納各種類型的基底，包括卷對卷、非平面和粉末涂層。它適用于廣泛的應用領域，包括催化、光子學、能量存儲、傳感器和生命科學。這種模塊化的PVD沉積系統可以與分析工具集成，為您提供定制化的研究解決方案。
詳細介紹
Nikalyte NL FLEX物理氣相沉積系統是一款超多功能的PVD（物理氣相沉積）系統，能夠生成納米顆粒和薄膜，非常適合工業和學術研究。NL-FLEX可以容納各種類型的基底，包括卷對卷、非平面和粉末涂層。它適用于廣泛的應用領域，包括催化、光子學、能量存儲、傳感器和生命科學。這種模塊化的PVD沉積系統可以與分析工具集成，為您提供定制化的研究解決方案。
主要特點：
· 通過結合納米顆粒和薄膜生成復雜材料。
· 使用NL-UHV技術生產無烴納米顆粒。
· 空間寬敞且易于進入的真空腔，非常適合處理精細和復雜的基底。
· 可選擇向上或向下配置的源。
· 兼容第三方源。
· 提供旋轉、加熱和偏置選項，用于三維物體的涂層。
· 自動化且由配方驅動的軟件。
·
基礎系統配置：
· 沉積腔尺寸：450 mm × 450 mm × 450 mm
· 基礎真空度：< 5×10??托
· 濺射方向：向下濺射
· 樣品臺：4英寸晶圓，20轉/分鐘旋轉
· 抽真空系統：700升/秒渦輪分子泵，配備7.2立方米/小時干式前級泵
· 閥門：手動閥門、快門和線性驅動裝置
· 控制軟件：配方驅動的工藝控制、電源控制和數據記錄
· 原位監測：石英晶體微量天平用于工藝監測和終點檢測
· 源端口：最多可連接6個沉積源
· 源類型：納米顆粒源、磁控濺射源、小型電子束蒸發源、熱舟源、K型離子源、射頻原子源
Nikalyte NL FLEX物理氣相沉積系統可選配置：
· 可拆卸的沉積屏蔽裝置
· 向上配置的源幾何結構
· 樣品臺選項：
o 直流偏置用于納米顆粒加速
o 射頻偏置用于樣品表面清潔
o 加熱至800℃
· 閥門、快門和線性驅動裝置的自動化選項
· 渦輪泵前的可調擋板，用于在較低氣體流量下增加濺射的動態壓力范圍
· 單獨抽真空的裝卸鎖和傳輸臂