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產品簡介
詳細介紹
PECVD工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應氣體分子，就會使中性反應氣體分子變成碎片或處于激活的狀態容易發生反應；借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜；具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等優點； PECVD小型滑動開啟式管式爐系統通過滑動爐體來實現快速的升降溫，配置不同的真空系統來達到理想的真空度；同時通過多路高精度質量流量計控制不同氣體。是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇。 PECVD小型滑動開啟式管式爐系統主要用途： 高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。 | |
技術參數： | |
爐體結構 | 雙層爐殼間配有風冷系統，有效保證外殼表面溫； 爐子底部裝有一對滑軌，移動平穩 爐子可以手動從一端滑向另一端，實現快速的加熱和冷卻 爐蓋可開啟，可以實時觀察加熱的物料 |
電源 | 電壓：AC220V 50/60Hz；功率：4KW |
爐管 | 高純石英管，高溫下化學穩定性強，耐腐蝕，熱膨脹系數極小 尺寸：Φ60*1250mm |
法蘭及支撐 | SUS304不銹鋼快速法蘭，通過用高溫“O”型圈緊密密封可獲得高真空 一個卡箍就能完成法蘭的連接，放、取物料方便快捷 可調節的法蘭支撐，平衡爐管的受力支撐 包含進氣、出氣、真空抽口針閥，KF密封圈及卡箍組合 |
加熱系統 | 加熱元件采用優質合金絲0Cr27Al7Mo2，表面負荷高、經久耐用 加熱區長度：270mm 恒溫區長度：100mm 工作溫度：≤1150℃ zui高溫度：1200℃ 升溫速率：10℃/min |
溫控系統 | 溫度控制采用人工智能調節技術，具有PID調節、自整定功能 30段升降溫程序 測溫元件：N型熱電偶 恒溫精度：±1℃ |
混氣系統 | 四路質量流量計：數字顯示、氣體流量自動控制 內置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥 管路采用不銹鋼管，接口為Φ6卡套 每路氣體進氣管路配有不銹鋼針閥 通過控制面板上的旋鈕來調節氣體流量 流量規格：0~200sccm 流量精度：±1.5% |
高真空真空系統 | 采用雙級旋片真空泵+分子泵，極限真空可達4.0*10^-4Pa 復合真空計，配置電阻規+電離規 抽速：110L/S 冷卻：風冷 電源:AC220V 50/60Hz |
射頻電源系統 | 輸出功率:0-300W 功率穩定度：±0.1% 射頻電源頻率:13.56MHz 穩定性±0.005% zui大反向功率:120W 射頻電源電子輸出端口:UHF 冷卻:風冷 電源:AC187-253V 50/60Hz |
可選配件 | 混氣系統,中、高真空系統，各種剛玉、石英坩堝，石英管，計算機控制軟件，無紙記錄儀，氧含量分析儀。 |