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產品簡介
詳細介紹
CVD-1700系統由SGL-1700真空管式爐，HQF-Ⅲ浮子混氣系統，內置測溫系統及真空系統等組成。此系統燒結溫度可達1700℃；真空泵采用雙極旋片真空泵，真空度可達到5x10-1Pa；可實現不同的1~3路氣體混合；內置測溫系統可實時監測反應管內的溫度變化。 | |
主要功能和特點： 1、高真空系統由雙級旋片真空泵和分子泵組成，zui高真空可達0.0001Pa； 2、可配合壓強控制儀控制氣體壓力實現負壓的精準控制； 3、數字質量流量控制系統是由多路質量流量計，流量顯示儀等組成，實現氣體的流量的精密測量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統的安全性和連續均勻性。 4、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；管路采用世界*Swagelok卡套連接，不漏氣； 5、超溫、過壓時，自動切斷加熱電源及流量計進氣，使用安全可靠。 | |
主要用途： 高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD/CVI實驗，特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結等場所。 | |
主要技術參數： | |
SGL-1700真空管式爐 | 雙層爐殼間配有風冷系統，有效保證外殼表面溫； 日本技術真空吸附成型的優質高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛，保溫性能好 加熱元件采用進口優質U型硅鉬棒，表面負荷高，大大提高了其使用壽命 |
電壓 | AC220V 50/60Hz |
功率 | 6KW |
爐管 | 采用99氧化鋁剛玉管，致密度高，經久耐用，不易斷裂 尺寸：Φ40/60/80*/1000mm 4個氧化鋁管堵 |
法蘭及支撐 | SUS304不銹鋼快速水冷法蘭，長期水冷無腐蝕 一個卡箍就能完成法蘭的連接，放、取物料方便快捷 可調節的法蘭支撐，平衡爐管的受力支撐 包含進氣、出氣、真空抽口針閥，KF密封圈及卡箍組合，4個密封硅膠圈等 |
加熱系統 | 加熱元件：6根U型硅鉬棒 加熱區長度：280mm 恒溫區長度：100mm 工作溫度：≤1600℃ zui高溫度：1650℃ 升溫速率：≤10℃/min |
溫控系統 | 溫度控制采用人工智能調節技術，具有PID調節、自整定功能 50段升降溫程序 測溫元件：B型雙鉑銠熱電偶 恒溫精度：±1℃ |
HQF-Ⅲ混氣系統 | 三路浮子流量計配置在移動工作臺上，可以同時通入三路不同的氣體 內置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥 管路采用聚四氟乙烯軟管，耐溫耐腐 每路氣體進氣管路配有不銹鋼針閥 流量規格：0.3~3L/min 控制精度：±5% |
低真空系統 | 采用雙極旋片真空泵，真空度可達5x10-1 Torr 不銹鋼充油真空壓力表，良好的抗震性 |
內置測溫系統 | 測溫元件可從加熱區邊緣延伸至溫區中心 法蘭密封，保證爐管的密封性 測溫元件：B型雙鉑銠熱電偶 |
尺寸 | 高溫爐：660*580*910mm 混氣移動工作臺：800*540*720mm |
可選配件 | HQZ混氣系統,中、高真空系統，各種剛玉坩堝，剛玉管，計算機控制軟件，無紙記錄儀，氧含量分析儀，冷卻水循環機等 |